[특허]Trap apparatus

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/00 B01D-047/00 B01D-047/02 B01D-047/06
출원번호	US-0512333 (2000-02-24)
우선권정보	JP-11-050610 (1999-02-26)
발명자 / 주소	Kuniaki Horie JP Masahito Abe JP Tsutomu Nakada JP Yuji Araki JP
출원인 / 주소	Ebara Corporation JP
대리인 / 주소	Wenderoth, Lind & Ponack, L.L.P.
인용정보	피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 16

초록 ▼

A trap apparatus is optimum for trapping a material gas discharged from a vapor deposition apparatus for depositing in a vapor phase thin films of high-dielectric or ferroelectric such as barium/strontium titanates on substrates. The trap apparatus is disposed downstream of a vacuum process chamber. The vacuum process chamber is for processing a substrate. The trap apparatus is for trapping a component having a low vapor pressure contained in a gas discharged from the vacuum process chamber. The trap apparatus includes a trap container for introducing the gas discharged from the vacuum process chamber, and a cooling device provided in the trap container for cooling the gas to a temperature equal to or lower than a condensing temperature of a gas component which is contained in the gas and easily liquidized.

대표청구항 ▼

1. A trap apparatus for use with a vacuum process chamber for processing a substrate, said trap apparatus to be disposed downstream of the vacuum process chamber and being operable to trap a component having a low vapor pressure contained in a gas discharged from the vacuum process chamber, said trap apparatus comprising:a trap container for receiving the gas discharged from the vacuum process chamber; a solvent supply device for supplying a solvent into said trap container, wherein the solvent traps the component having the low vapor pressure; and a solvent cooling device for cooling the solvent to condense the component having the low vapor pressure.

이 특허에 인용된 특허 (16)

Griggs William A. ; Pool Jerry S. ; York Joe D., Apparatus and method for cleaning gas.
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Fujikawa Yuichiro,JPX ; Murakami Seishi,JPX ; Hatano Tatsuo,JPX, Apparatus for removing tramp materials and method therefor.
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Bondor Frank Samuel (New Canaan CT), Countercurrent flow horizontal spray absorber.
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Patte Philippe (Nancy FRX) Cordier Andre (Clamart FRX), Device for scrubbing a polluted gas.
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Lane Scott ; Shah Dinesh ; Colman Ronald,GB2 ; Heading Liam R.,GB6 ; Simpson Eric,GBX, Flow-stabilized wet scrubber system for treatment of process gases from semiconductor manufacturing operations.
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Laslo Dennis J. (Lebanon PA), Flue gas scrubbing apparatus.
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Burgess J. Stuart (London CAX) Spink Donald R. (Waterloo CAX) Stein Jerry Y. (Thornhill CAX), Gas reacting apparatus.
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Burgess J. Stuart (London CAX) Spink Donald R. (Waterloo CAX) Stein Jerry Y. (Thornhill CAX), Gas reacting apparatus and method.
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Fattinger Volker (Arlesheim CHX) Schneider Jrg (Muttenz CHX), Gas scrubbing tower.
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Carr William J. (San Jose CA) Krummen Raymond S. (Los Gatos CA), Hydrodynamic fume scrubber.
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Han Leon M., Prevention of clogging in CVD apparatus.
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Fukunaga Yukio,JPX ; Shinozaki Hiroyuki,JPX ; Tsukamoto Kiwamu,JPX ; Saitoh Masao,JPX, Reactant gas ejector head.
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Gohara Wadie F. ; Nelson Norman D., Retrofit of a center inlet type scrubber with absorption/gas distribution tray to improve gas-liquid contact in the absorption zone.
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Sorensen Ian W. ; Lamb Edward A., Scrubber system and method of removing pollutants from a fluid.
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Van Buskirk Peter C. (Newtown CT), Showerhead-type discharge assembly for delivery of source reagent vapor to a substrate, and CVD process utilizing same.
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Hirase Ikuo (Toride JPX), Thermal decomposition trap.
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이 특허를 인용한 특허 (1)

Chen, Ling; Ku, Vincent; Wu, Dien-Yeh; Chung, Hua; Ouye, Alan; Nakashima, Norman; Chang, Mei, Gas delivery apparatus for atomic layer deposition.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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