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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0399821 (1999-09-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 57 인용 특허 : 15 |
A laminated microchannel device is described in which there is a unit operation process layer that has longitudinal channel. The longitudinal channel is cut completely through the layer in which the unit process operation resides. Both the device structure and method of making the device provide sig
1. A laminated microchannel device comprising:a unit operation process layer comprising top and bottom surfaces; a channel extending longitudinally through the process layer and having a depth equal to or greater than the depth of the layer such that the channel has an opening through the top and bo
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