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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0584725 (2000-06-01) |
우선권정보 | FR-99 07191 (1999-06-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 12 |
The subject of the present invention is a method and a device for filling a distribution line (20) with corrosive gas. The said method is a method for filling with gas, with passivation, a line (20) for distributing corrosive gas, which line is intended to distribute the said corrosive gas to a syst
1. Method for filling with gas, with passivation, a line for distributing a corrosive or active gas, which line is suitable for distributing said gas to a system located immediately downstream of said line; said method comprising:prior conditioning of said line; and actual filling of said line with
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