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Apparatus and method for degassing and preventing gelation in a viscous liquid 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-019/00
출원번호 US-0756613 (2001-01-04)
발명자 / 주소
  • Tzung-Chi Fu TW
  • Albert An-Ho Yin TW
출원인 / 주소
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd TW
대리인 / 주소
    Tung & Associates
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 9

초록

An apparatus for degassing and preventing gelation in a viscous liquid stored in a reservoir tank is provided. For a viscous liquid such as one that has a viscosity higher than 5000 cp, a reservoir tank that has a cavity for holding the liquid is first provided which is equipped with a liquid feed c

대표청구항

1. An apparatus for degassing and preventing gelation in a viscous liquid stored in a reservoir tank comprising:a reservoir tank having a cavity therein for holding a liquid; a liquid feed conduit of J-shape having an inlet end in fluid communication with a liquid source and an outlet end at an oppo

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Sakamoto Kazuo,JPX ; Fujimoto Akihiro,JPX ; Ishizaka Nobukazu,JPX ; Hasegawa Izumi,JPX, Apparatus and method for supplying a process solution.
  2. Yajima Takeo,JPX, Chemical liquid supply method and apparatus thereof.
  3. Wang Wen-Shyan,TWX ; Lu Shih-Hung,TWX, Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line.
  4. Hung Cheng-chieh,TWX ; Wen Ming-chien,TWX ; Chuang Mao-sheng,TWX, Method and apparatus for eliminating trapped air from a liquid flow.
  5. Huang Cheng H.,TWX ; Wang Ray C.,TWX ; Liu Teh Y.,TWX ; Chao Cheng H.,TWX, Method and apparatus for recovering process liquid and eliminating trapped air.
  6. Hasebe Keizo (Kofu JPX) Fujimoto Akihiro (Kumamoto-ken JPX) Inada Hiroichi (Kumamoto JPX) Iino Hiroyuki (Nirasaki JPX) Kitamura Shinzi (Kumamoto-ken JPX) Deguchi Masatoshi (Kumamoto JPX) Nambu Mitsuh, Method of forming coating film and apparatus therefor.
  7. Liu Jen Song,TWX ; Chang Bii Juno,TWX ; Fang Jen Shang,TWX ; Chang Hao Wei,TWX, Photoresist supply system with air venting.
  8. Do Dac-Vong (Langen DEX), Process and apparatus for degassing and filtering liquids.
  9. Hisao Kamo JP, Solution feeding apparatus and method of feeding solution.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Park, Jin Jun; Yun, Suk Fill, Apparatus for dispensing photo-resist in semiconductor device fabrication equipment.
  2. Lee, Jung-Min; Lee, Choong-Ho, Apparatus for dispensing resin fluid.
  3. Udagawa, Seiichiro, Chemical liquid apparatus and deaerating method.
  4. Yajima, Takeo, Chemical liquid supply apparatus and a chemical liquid supply method.
  5. Carcasi, Michael Andrew; Printz, Wallace Paul; Hooge, Joshua Steven, Method and apparatus for increased recirculation and filtration in a photoresist dispense system using a liquid empty reservoir.
  6. Nguyen,Andrew, Method and system of coating polymer solution on surface of a substrate.
  7. Kao, Yao-Hwan; Huang, Po-Chang, System and method for replacing resist filter to reduce resist filter-induced wafer defects.
  8. Crowder, Robert O.; Burban, John H.; Jersey, Steven T.; Carlson, Kevin; Saveliev, Michael, Venting and filtration systems with gas permeable membrane.
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