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Chemiluminescence detection apparatus

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/302
  • G01N-021/00
출원번호 US-0129003 (1998-08-04)
발명자 / 주소
  • Li, Leping
  • Gilhooly, James A.
  • Morgan, III, Clifford O.
  • Wei, Cong
  • Moser, Werner
  • Kutter, Matthias
  • Knee, Joseph
  • Imfeld, Walter
  • Greuter, Bruno
  • Stuenzi, Heinz
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation, ECO Physics AG
대리인 / 주소
    Anderson, Jay H.Townsend, Tiffany L.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 12

초록

An apparatus is described for detecting the presence of a gaseous chemical produced during a chemical-mechanical polishing operation. The apparatus includes a catalytic converter, a reaction chamber and a light sensor. The catalytic converter, heated to about 800° C. converts the chemical to a diffe

대표청구항

1. An apparatus for performing a chemical-mechanical polishing process including removing a target film overlying a stopping film and for providing real-time control of the process by detecting the presence of a chemical in a gaseous state to yield a process endpoint signal, the chemical being selec

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Stahl Quade R. (Springfield VA), Analytical apparatus and method employing purified ozone.
  2. Awaji Toshio (4-130-banchi ; Hikino-cho 2-cho Sakai-shi ; Osaka-fu JPX), Apparatus for removing harmful objects from a gas.
  3. Bruening Wilhelm (Rio de Janeiro BRX) de Andrade Bruening Inai M. R. (Rio de Janeiro BRX) Martinez Concha Francisco J. (Rio de Janeiro BRX), Apparatus for the determination of chemical compounds by chemiluminescence with ozone.
  4. Ohmi Tadahiro,JPX ; Fujiki Man,JPX ; Takada Joichi,JPX, Chemical mechanical polishing apparatus.
  5. Shindo Mizuo (Ootake JPX) Yamamoto Takashi (Ootake JPX) Kamada Kensuke (Chiba JPX), Gas transfer process with hollow fiber membrane.
  6. Li Leping ; Gilhooly James Albert ; Morgan ; III Clifford Owen ; Wei Cong ; Yu Chienfan, Indirect endpoint detection by chemical reaction.
  7. Li Leping ; Gilhooly James Albert ; Morgan ; III Clifford Owen ; Surovic William Joseph ; Wei Cong, Indirect endpoint detection by chemical reaction and chemiluminescence.
  8. Sandhu Gurtej S., Method and apparatus for endpointing mechanical and chemical-mechanical polishing of substrates.
  9. Zolner William J. (Westford MA), Multiple chamber chemiluminescent analyzer.
  10. Matson Stephen L. (Harvard MA) Stanley Thomas J. (Schnectady NY), Phase transfer catalysis.
  11. Hardy James E. (Scotch Plains NJ) Knarr John J. (South Plainfield NJ), Process and apparatus for measuring gaseous fixed nitrogen species.
  12. Kishkovich Oleg P. ; Kinkead Devon A., Protection of semiconductor fabrication and similar sensitive processes.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Mueller,Brian L., Compositions for chemical mechanical polishing silica and silicon nitride having improved endpoint detection.
  2. Stansberry, Peter G.; Singer, Leonard, Enhanced directional conductivity of graphitizable foam.
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