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Method for preparing cleaning solution 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C11D-011/00
출원번호 US-0570575 (2000-05-12)
우선권정보 JP-0167780 (1997-06-24); JP-0166695 (1998-06-15)
발명자 / 주소
  • Mitsumori, Kenichi
  • Oh, Eui-Yeol
  • Kasama, Yasuhiko
  • Ohmi, Tadahiro
  • Imaoka, Takashi
출원인 / 주소
  • Ohmi
  • Tadahiro, Organo Corporation
대리인 / 주소
    Fish & Richardson P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 17

초록

Deionized water from a deionized water source (21) for electrolysis is supplied by a pressurizing pump (20) to an electrolyzer (2) to obtain a hydrogen gas and ozone gas by means of electrolysis. The pressures of these gasses are maintained at not less than the atmospheric pressure. These gasses at

대표청구항

1. A method for preparing cleaning solutions for cleaning objects, said method comprising the step of dissolving in deionized water hydrogen gas, or a mixture of hydrogen gas and an inert gas, by controlling a supply pressure of said gas at a value exceeding atmospheric pressure, wherein controlling

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Matthews Robert Roger, Apparatus for the treatment of semiconductor wafers in a fluid.
  2. Kim Ji-Sung (Anyang KRX), Automatic washing machine using ozone.
  3. Ho Hsi-Yin,TWX, Cleaning apparatus with ozone and bubble generating means.
  4. Cohen Susan ; Cooper Emmanuel I. ; Penner Klaus,DEX ; Rath David L. ; Srivastava Kamalesh K., Control of gas content in process liquids for improved megasonic cleaning of semiconductor wafers and microelectronics.
  5. Uban Stephen A. (Stillwater MN) Maxson Richard C. (Maple Grove MN) Holliday Ralph W. (Minden NV) Watson Mark E. (Sturbridge MA), Method and apparatus for water treatment.
  6. Sasaki Kenichi (Kanagawa-ken JPX) Saito Takayuki (Kanagawa-ken JPX) Nakajima Ken (Kanagawa-ken JPX) Imai Mitsuru (Kanagawa-ken JPX), Method of and apparatus for producing ozonized water.
  7. Mashimo Noriyoshi (Tokyo JPX) Okumura Katsuya (Yokohama JPX), Method of cleaning semiconductor wafers using mixer containing a bundle of gas permeable hollow yarns.
  8. Spencer Kevin C. ; Steiner Edward F., Method of disinfecting fresh vegetables by processing the same with a liquid containing a mixture of argon:carbon dioxi.
  9. Sasaki Takashi (Hyogo JPX) Harada Hiroyuki (Tokyo JPX) Hogetsu Akihiko (Hyogo JPX), Methods and apparatuses for producing high purity oxygen and hydrogen.
  10. Bhave Ramesh R. (Cranberry Township PA) Filson James L. (Wexford PA), On-line ozonation in ultra pure water membrane filtration.
  11. Campen Jan P. (Wassenaar NLX) Jaspers Blandikus C. (Delft NLX) Kaptijn Joannes P. (Oegstgeest NLX), Process and apparatus for purifying streams.
  12. Baumann Hans (Staretschwil CHX) Stucki Samuel (Nussbaumen CHX), Process for breaking down organic substances and/or microbes in pretreated feed water for high-purity water recirculatio.
  13. Richard Yves R. (Marly le Roi FRX), Reactor for the ozonization of water.
  14. Hayami Yuka,JPX ; Suzuki Miki T.,JPX ; Ogawa Hiroki,JPX ; Fujimura Shuzo,JPX ; Mori Haruhisa,JPX ; Okui Yoshiko,JPX, Semiconductor substrate cleaning method and semiconductor device fabrication method.
  15. Molinaro James S. (Coplay PA), Sparger plate for ozone gas diffusion.
  16. Morgan Paul A. ; Morgan Jonathan C., System and method for mixing a gas into a solvent used in semiconductor processing.
  17. Hayashi Toyohide,JPX ; Iwami Masaki,JPX, Treating liquid supplying method and apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Shibayama,Nobuyuki, Substrate processing apparatus and control method of inert gas concentration.
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