최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0575997 (2000-05-23) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 180 인용 특허 : 21 |
Particular types of distortion within a lithographic system may be characterized by linewidth control parameters. Linewidth control parameters of any given line or feature within a printed pattern vary as a result of optical capabilities of the lithography apparatus used, particular characteristics
1. A method of linewidth optimization within a lithographic system comprising the steps of: (a) printing lines for various points within a slot; (b) selecting a linewidth control parameter; (c) determining focus offset coefficients for said linewidth control parameter based on said printed line
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.