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Silicon oxide powder and process for manufacturing thereof, and cosmetic preparation, micelle holding powder, and perfume holding powder, using the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A61K-006/00
  • A61K-007/00
  • A61K-007/06
  • A61K-007/11
  • A61K-007/035
출원번호 US-0077416 (1998-11-23)
우선권정보 JP-0278870 (1996-09-30); JP-0050965 (1997-02-18)
국제출원번호 PCT/JP97/03487 (1997-09-30)
국제공개번호 WO98/14399 (1998-04-09)
발명자 / 주소
  • Shio, Shoichiro
  • Kimura, Asa
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 4

초록

A non-laminar silicon oxide powder manufactured by a process comprising, a dissolution step wherein a concentration of 0.1-5.0M of a silicate which is in the range of 02/Y2O<2 (Y: alkali metal atom) is dissolved in the presence of a cationic surfactant and the pH is 11 or more, a condensation step w

대표청구항

A non-laminar silicon oxide powder manufactured by a process comprising, a dissolution step wherein a concentration of 0.1-5.0M of a silicate which is in the range of 02/Y2O<2 (Y: alkali metal atom) is dissolved in the presence of a cationic surfactant and the pH is 11 or more, a condensation step w

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Lujano Juan,VEX ; Romero Yilda,VEX ; Carrazza Jose,VEX, Material with microporous crystalline walls defining a narrow size distribution of mesopores, and process for preparing.
  2. Bruinsma Paul J. ; Baskaran Suresh ; Bontha Jagannadha R. ; Liu Jun, Mesoporous-silica films, fibers, and powders by evaporation.
  3. Beck Jeffrey S. (Princeton NJ), Method for synthesizing mesoporous crystalline material.
  4. Inagaki Shinji (Aichi-ken JPX) Fukushima Yoshiaki (Aichi-ken JPX) Yamada Yuri (Aichi-ken JPX), Process for producing porous silicon oxide material.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Klein, Richard; Birtles, John; Koos, John; Lee, Michael J., Drug eluting expandable devices.
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