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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0077416 (1998-11-23) |
우선권정보 | JP-0278870 (1996-09-30); JP-0050965 (1997-02-18) |
국제출원번호 | PCT/JP97/03487 (1997-09-30) |
국제공개번호 | WO98/14399 (1998-04-09) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 4 |
A non-laminar silicon oxide powder manufactured by a process comprising, a dissolution step wherein a concentration of 0.1-5.0M of a silicate which is in the range of 02/Y2O<2 (Y: alkali metal atom) is dissolved in the presence of a cationic surfactant and the pH is 11 or more, a condensation step w
A non-laminar silicon oxide powder manufactured by a process comprising, a dissolution step wherein a concentration of 0.1-5.0M of a silicate which is in the range of 02/Y2O<2 (Y: alkali metal atom) is dissolved in the presence of a cationic surfactant and the pH is 11 or more, a condensation step w
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