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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0748387 (2000-12-27) |
우선권정보 | JP-0370460 (1999-12-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 14 |
Silicon carbide single crystal is produced by allowing a silicon raw material to continuously react with a carbon raw material to generate gas, which reaches a seed crystal substrate on which a silicon carbide single crystal grows. Preferably, the silicon raw material is continuously fed onto the ca
1. A method for producing a silicon carbide single crystal comprising continuously feeding a carbon raw material of a finely divided particle form onto a carbon raw material of a finely divided particle form whereby the carbon raw material is allowed to continuously react with the carbon raw materia
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