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Dynamic blending gas delivery system and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/448
출원번호 US-0799644 (2001-03-06)
발명자 / 주소
  • de Almeida Botelho, Alexandre
  • Del Prato, Thomas Anthony
  • Ford, Robert William
출원인 / 주소
  • Air Products and Chemicals, Inc.
대리인 / 주소
    Chase, Geoffrey L.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 11

초록

A dynamic blending gas delivery system and method are disclosed. A blended gaseous mixture produced in accordance with the method is used in chemical vapor deposition tools or similar process tools. One embodiment is a multi-step method for processing a plurality of fluids to form a blended gaseous

대표청구항

1. A method for processing a plurality of fluids to form a blended gaseous mixture and supplying the blended gaseous mixture to a distribution header from which the blended gaseous mixture is delivered to at least one process tool, comprising the steps of: supplying a first fluid; heating the fi

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Koni Tuyoshi (Tokorozawa JPX) Urushida Yoshihisa (Tokorozawa JPX) Tsuzuki Akira (Tokorozawa JPX), Anesthetic gas control apparatus.
  2. McDiarmid James ; Johnsgard Kristian E. ; Parks Steven E. ; Johnsgard Mark W., Apparatus and method for CVD and thermal processing of semiconductor substrates.
  3. Lalumandier Steven R. (League City TX) Geary Cathy J. (Seabrook TX) Knight Larry F. (Seabrook TX), Automatic gas blending system.
  4. Nagashima Makoto (Tokyo JPX) Nishizato Hiroshi (Chiba JPX) Ono Hirofumi (Shiga JPX), Chemical vapor deposition method and apparatus therefore.
  5. Hanson Robert C. (Excelsior MN), Control system and apparatus for producing compatible mixtures of fuel gases.
  6. Strain Donny R. (Waterford MI) Martin Daniel B. (Troy MI), Gas blending using null balance analyzer.
  7. Murakami Seishi (Kofu JPX) Hatano Tatsuo (Nirasaki JPX), Liquid material supply apparatus and method.
  8. Toyama Yoshiharu,JPX ; Kuroda Akikazu,JPX ; Kiyama Tokuji,JPX ; Kida Sumio,JPX ; Yoshida Shunji,JPX ; Yamamoto Takashi,JPX ; Atsumi Tetsuya,JPX, Method and apparatus for feeding a gas for epitaxial growth.
  9. Hatano Tatsuo,JPX, Process-gas supply apparatus.
  10. Jinnouchi Shimpei (Nirasaki JPX) Kuno Hiroshi (Komae JPX) Otsuki Hiroshi (Tokyo JPX), Semiconductor treatment apparatus.
  11. Benning Michael A. (Allentown PA) Miller Stephen B. (Doylestown PA), System for continuous blending of a liquid into a gas.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Deck, Philippe; Valsasina, Luca; Legeron, Wilfried, Installation for packaging NO using mass flow meters.
  2. Meier, Michael, Systems and methods for providing a monitoring and deactivation apparatus for a beverage distribution system.
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