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Mold apparatus used during semiconductor device fabrication 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B29C-033/56
출원번호 US-0146853 (1998-09-03)
발명자 / 주소
  • Westmoreland, Donald L.
출원인 / 주소
  • Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Workman, Nydegger & Seeley
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 16

초록

Surface modifications of a mold used during semiconductor device fabrication provide non-stick characteristics and a mold surface that is resistant to abrasion or wear. Such surface modifications are particularly useful in a mold having a quartz planar surface adapted to contact a photocurable polym

대표청구항

Surface modifications of a mold used during semiconductor device fabrication provide non-stick characteristics and a mold surface that is resistant to abrasion or wear. Such surface modifications are particularly useful in a mold having a quartz planar surface adapted to contact a photocurable polym

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Libres Jeremias L. ; Frechette Raymond A. ; Bolanos Mario A. ; Pas Ireneus J. T. M.,NLX, Dambarless leadframe for molded component encapsulation.
  2. Koller Franz (Neuried DEX), Device for casting electric components.
  3. Kurihara Noriko (Nerima JPX), Diamond crystal coated mold for forming optical elements.
  4. Willis Paul B. (La Canada CA) McElroy Paul M. (La Crescenta CA) Hickey Gregory H. (Altadena CA), Durable low surface-energy surfaces.
  5. Choquette Steven J. ; Ramos Brigitte L., Fabrication of embossed diffractive optics with reusable release agent.
  6. Cavasin Daniel, Method for molding using an ion implanted mold.
  7. Voinis Sylvie (St . Germain-en-Laye FRX) Nijboer Sjoerd (Carrieres-sur-Seine FRX), Method of encapsulating an electronic component with a synthetic resin.
  8. Miyajima Fumio,JPX, Method of resin molding and resin molding machine for the same.
  9. Aoki Kazumasa (Tenri JPX) Fujita Kazuya (Nabari JPX) Uchida Hirofumi (Yamato-Koriyama JPX) Tsuda Takaaki (Tenri JPX) Maeda Takamichi (Yamato-Koriyama JPX), Method of spraying release agent.
  10. Taniguchi Yasushi,JPX, Mold for molding optical element.
  11. Sato Shinichi (Annaka JPX) Oohasi Morio (Annaka JPX) Inomata Hiroshi (Annaka JPX), Mold releasing resin composition and molding of curable resin using the same.
  12. Singh Brij P. (North Royalton OH) Subramaniam Raj (Parma OH), Mold surfaces with ultra thin release films.
  13. Nakayama Masatoshi (Saku JPX) Ueda Kunihiro (Saku JPX) Ishida Toshihiko (Komoro JPX) Tanabe Hiroshi (Saku JPX), Molds having wear resistant release coatings.
  14. Hotta Yuji,JPX ; Shigyo Hitomi,JPX ; Ohizumi Shinichi,JPX, Production method for encapsulating a semiconductor device.
  15. Sato Mitsuo (Zama JPX) Shaura Hazime (Yokohama JPX) Tateishi Megumi (Yokohama JPX), Resin molding apparatus.
  16. Rounds, Nicholas A., Transfer molding process for encapsulating semiconductor devices.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Espe,Rolf; Espe,Oliver, Method for processing and producing a surface with a degree of lustre.
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