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Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
출원번호 US-0323945 (1999-06-02)
발명자 / 주소
  • Clark, R. Scot
  • Baird, Stephen S.
  • Hoffman, Joe G.
출원인 / 주소
  • American Air Liquide, Inc.
대리인 / 주소
    Russell, Linda K.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 20

초록 ▼

Semiconductor wafers and other electronic parts which similarly require ultra-high purity manufacturing environments are treated with ultra-high purity liquid cleaning and etching agents prepared at the site of use from gaseous raw materials which have been purified to a level compatible with semico

대표청구항 ▼

Semiconductor wafers and other electronic parts which similarly require ultra-high purity manufacturing environments are treated with ultra-high purity liquid cleaning and etching agents prepared at the site of use from gaseous raw materials which have been purified to a level compatible with semico

이 특허에 인용된 특허 (20)

  1. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Apparatus for treating wafers with process fluids.
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  2. Ohkuma, Yuji, Apparatus for wet processing.
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  3. Dobson Jesse C. (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA), Distillation method and apparatus for reprocessing sulfuric acid.
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  4. Blackwood Robert S. (Lubbock TX) Biggerstaff Rex L. (Lubbock TX) Clements L. Davis (Lincoln NE) Cleavelin C. Rinn (Lubbock TX), Gaseous process and apparatus for removing films from substrates.
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  5. Syverson Daniel J. (Robbinsdale MN) Novak Richard E. (Plymouth MN), HF gas etching of wafers in an acid processor.
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  6. Dobson Jesse (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA), Hydrofluoric acid reprocessing for semiconductor standards.
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  7. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua, Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids.
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  8. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua, Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids used in semiconductor wafer c.
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  9. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Method and system for fluid treatment of semiconductor wafers.
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  10. Shimizu Shumpei (Moses Lake WA) Yoshizako Mamoru (Machida JPX) Cho Toshitsura (Kawasaki JPX), Method for producing high purity chemicals.
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  11. Bergman Eric J. (Kalispell MT) Reardon Timothy J. (Kalispell MT) Thompson Raymon F. (Lakeside MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Multi-station semiconductor processor with volatilization.
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  12. Toyomoto Kazuo (Yokohama JPX) Terada Eigo (Kamakura JPX) Kobayashi Hiroshi (Yokohama JPX) Kageura Yoshiaki (Sagamihara JPX), Permeable polymer membrane for dessication of gas.
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  13. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Process and apparatus for treating wafers with process fluids.
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  14. Kurokawa Hideaki (Hitachi JPX) Yamada Akira (Hitachi JPX) Koseki Yasuo (Hitachiota JPX) Matsuzaki Harumi (Hitachi JPX) Ebara Katsuya (Mito JPX) Takahashi Sankichi (Hitachi JPX) Yoda Hiroaki (Ibaraki , Process for producing ultra-pure water and process for using said ultra-pure water.
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  15. Ogura Mototsugu (Nara JPX) Kagawa Keiichi (Hirakata JPX) Hirofuji Yuichi (Neyagawa JPX), Process for treating semiconductors.
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  16. Kagiyama Yasuhiro (Tokuyama JPX) Doi Koichi (Tabuse JPX) Nonaka Toru (Tokuyama JPX) Ishiyama Yuji (Shin-Nanyo JPX) Komatsubara Shigeo (Yokohama JPX), Process for washing semiconductor substrate with organic solvent.
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  17. Kirksey Kirby (Newark DE), Purification of hydrogen peroxide.
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  18. Chung Bryan C. (Flemington NJ) Ellis ; Jr. Roland (Burlington Township ; Burlington County NJ) Frazee Kenneth G. (Winter Springs FL), Semiconductor wafer cleaning method and apparatus.
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  19. Dobson Jesse C. (Oakland CA), Sulfuric acid reprocessor.
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  20. McCormick Marshall W. (Oakland CA) Dobson Jesse C. (Oakland CA), Sulfuric acid reprocessor with continuous purge of second distillation vessel.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Osuda,Hiroshi; Matoba,Toru; Adachi,Daisuke; Fukuizumi,Masataka, Apparatus and method for distilling waste liquids.
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  2. Kang, Dong-Min; Baek, Kui-Jong; Hahn, Woong; Lee, Chun-Deuk; Lim, Jung-Hun; Kim, Young-Nam; Kim, Hyun-Joon, Composition for removing an insulation material, method of removing an insulation layer and method of recycling a substrate using the same.
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  3. Takahashi,Osamu; Ogasawara,Kunio, Fabrication method of semiconductor integrated circuit device.
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