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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0956428 (2001-09-20) |
우선권정보 | JP-0105085 (1999-04-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 2 |
When molten glass which is under an atmosphere of pressure P, is fed into a vacuum chamber capable of rendering a pressure to the molten glass to be in a range of 38 [mmHg]-(P-50) [mmHg] to perform degassing to the molten glass, a staying time of the molten glass in the vacuum chamber is in a range
1. A vacuum degassing method for molten glass comprising: feeding, under an atmosphere of pressure P in mmHg, molten glass into a vacuum chamber configured to render a pressure to the molten glass to be in a range of 38 mmHg-(P-50) mmHg so as to perform degassing to the molten glass, said vacuum
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