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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0946698 (2001-09-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 10 |
The present invention involves a photolithographic process, and apparatus and material for use therein, for producing etched or eroded areas or holes in a selected pattern on or in the surface of fine workpieces, such as small diameter tubes. One aspect of the present invention is a photolithographi
1. A photolithography apparatus for producing a selected pattern on a nonplanar surface of a workpiece, comprising: a stage having a receiving area adapted to receive the workpiece; a mask having an inner surface adapted to receive the nonplanar surface, the mask defining at least one aperture;
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