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Semiconductor memory device including a pair of MOS transistors forming a detection circuit 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-029/76
출원번호 US-0014662 (2001-12-14)
우선권정보 JP-0305215 (1994-12-08); JP-0083455 (1995-03-16)
발명자 / 주소
  • Oowaki, Yukihito
  • Yoshida, Masako
  • Yoshimi, Makoto
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toshiba
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 13

초록

A semiconductor device includes a semiconductor layer used as a substrate formed on an insulating film, a plurality of MOS transistors arranged on the semiconductor layer and each having a gate, a source, and a drain, a pair of MOS transistors of the plurality of MOS transistors constituting a detec

대표청구항

A semiconductor device includes a semiconductor layer used as a substrate formed on an insulating film, a plurality of MOS transistors arranged on the semiconductor layer and each having a gate, a source, and a drain, a pair of MOS transistors of the plurality of MOS transistors constituting a detec

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Tsai Chaochieh,TWX ; Hsu Shun-Liang,TWX, CMOS device structure with reduced risk of salicide bridging and reduced resistance via use of a ultra shallow, junction.
  2. Cooper Kent J. ; Roth Scott S., Contact structure and method of formation.
  3. Candelaria Jon J. (Tempe AZ), Enhanced mobility MOSFET device and method.
  4. Hsu Sheng Teng ; Nakato Tatsuo, GE-SI SOI MOS transistor and method of fabricating same.
  5. Pettenpaul Ewald (Unterhaching DEX) Huber Jakob (Aying DEX) Weidlich Herbert (Munich DEX), Metallization of selectively implanted AIII-BV compound semiconductors.
  6. Ryum Byung-Ryul (Daejeon KRX) Han Tae-Hyeon (Daejeon KRX) Lee Soo-Min (Daejeon KRX) Cho Deok-Ho (Daejeon KRX) Lee Seong-Hearn (Daejeon KRX) Kang Jin-Young (Daejeon KRX), Method for making bipolar transistor having an enhanced trench isolation.
  7. Shigyo Naoyuki,JPX ; Enda Toshiyuki,JPX, Method for manufacturing a semiconductor device with ion implantation.
  8. Mader ; Siegfried R. ; Masters ; Burton J. ; Pogge ; H. Bernhard, Minimization of misfit dislocations in silicon by double implantation of arsenic and germanium.
  9. Bahraman Ali (Palos Verdes Estates CA), Radiation hardened CMOS on SOI or SOS devices.
  10. Oowaki Yukihito,JPX ; Yoshida Masako,JPX ; Yoshimi Makoto,JPX, Semiconductor memory device.
  11. Oowaki Yukihito,JPX ; Yoshida Masako,JPX ; Yoshimi Makoto,JPX, Semiconductor memory device.
  12. Nakagawa Akio (Hiratsuka JPX), Silicon transistor device with silicon-germanium electron gas hetero structure channel.
  13. Woodruff Richard L. (Colorado Springs CO), Silicon-on-insulator H-transistor layout for gate arrays.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. King, Clifford A.; Rafferty, Conor S., Image sensor comprising isolated germanium photodetectors integrated with a silicon substrate and silicon circuitry.
  2. King, Clifford A.; Rafferty, Conor S., Image sensor comprising isolated germanium photodetectors integrated with a silicon substrate and silicon circuitry.
  3. King, Clifford A.; Rafferty, Conor S., Image sensor comprising isolated germanium photodetectors integrated with a silicon substrate and silicon circuitry.
  4. Tomita, Hiroyoshi, Semiconductor device with current mirror circuit having two transistors of identical characteristics.

문의처: helpdesk@kisti.re.kr전화: 080-969-4114

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