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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0002550 (2001-11-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 17 |
A method of manufacturing a dual load charge in a single consolidation pressing operation. A first type explosive is placed in a cavity to form a booster charge. A pocket is formed in the booster charge. A second type explosive is disposed in the pocket of the booster charge to form an initiating ch
A method of manufacturing a dual load charge in a single consolidation pressing operation. A first type explosive is placed in a cavity to form a booster charge. A pocket is formed in the booster charge. A second type explosive is disposed in the pocket of the booster charge to form an initiating ch
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