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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0706820 (2000-11-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 9 |
A method to selectively cap interconnects with indium or tin bronzes and copper oxides thereof is provided. The invention also provides the interconnect and copper surfaces so formed.
A method to selectively cap interconnects with indium or tin bronzes and copper oxides thereof is provided. The invention also provides the interconnect and copper surfaces so formed.
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