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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0821713 (2001-03-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 5 |
Trap apparatus and method for removing contaminants from the gaseous effluent flows from chemical vapor deposition chambers and processes by flowing the particle laden gas into an upper chamber of the trap apparatus, imparting additional kinetic energy to the powder particles to enhance separation o
Trap apparatus and method for removing contaminants from the gaseous effluent flows from chemical vapor deposition chambers and processes by flowing the particle laden gas into an upper chamber of the trap apparatus, imparting additional kinetic energy to the powder particles to enhance separation o
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