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Edge bead removal for spin-on materials containing low volatility solvents fusing carbon dioxide cleaning

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05D-003/12
  • B05D-001/02
출원번호 US-0591181 (2000-06-08)
발명자 / 주소
  • Endisch, Denis H.
출원인 / 주소
  • Honeywell International Inc.
대리인 / 주소
    Rutan & Tucker, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 14

초록

Methods are provided for removing edge beads from spin-on films. A spin-on film is removed from a region of a surface of a spin-coated substrate adjacent to an edge of the surface by spinning the spin-coated substrate, expanding a fluid through a nozzle to form a cryogenic aerosol stream, and direct

대표청구항

Methods are provided for removing edge beads from spin-on films. A spin-on film is removed from a region of a surface of a spin-coated substrate adjacent to an edge of the surface by spinning the spin-coated substrate, expanding a fluid through a nozzle to form a cryogenic aerosol stream, and direct

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Srikrishnan Kris V. (Wappingers Falls NY) Wu Jin J. (Ossining NY), Aerosol cleaning method.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  4. Brandt Werner V. ; Bowers Charles W., Apparatus for cleaning and testing precision components of hard drives and the like.
  5. Kosic Thomas J., Carbon dioxide jet spray disk cleaning system.
  6. Jackson David P. (Saugus CA) Buck Orval F. (Santa Monica CA), Cleaning process using phase shifting of dense phase gases.
  7. Brewer James M. (Austin TX), Edge bead removal process for spin on films.
  8. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
  9. Sant'Angelo Joseph G. ; Chen Xiaomao ; McGinnis Vincent D., Functionalized poly(alkylene carbonate), and use thereof.
  10. Yang Jingjun ; Drage James S. ; Forester Lynn, Nanoporous silica dielectric films modified by electron beam exposure and having low dielectric constant and low water content.
  11. Bowers Charles W., Photoresist and redeposition removal using carbon dioxide jet spray.
  12. Koike Norio (Fukaya JPX) Tsukagoshi Hatsuo (Yabuzuka-honmachi JPX), Photoresist composition with azide having alkoxy silane as adhesion agent for glass substrate.
  13. Cuthbert John D. (Bethlehem PA) Soos Nicholas A. (Lower Macungie Township ; Lehigh County PA), Removal of coating from periphery of a semiconductor wafer.
  14. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Herrmann,Steve; Raymond,Willard Charles; LaBerge,Matthew, Adjustable film frame aligner.
  2. Ko,Se Jong; Kim,Jung Gwan; Yoon,Cheol Nam; Lee,Jeong Ho, Apparatus for cleaning the edges of wafers.
  3. Simpkins, Patrick; Watkins, Cory, Camera and illumination matching for inspection system.
  4. Fukuda, Yoshiteru; Iseki, Tomohiro; Ishii, Takayuki, Coating treatment method and coating treatment apparatus.
  5. Spalteholz,Bernhard Alexander; Nielsen,Geoffrey Paul, Dry ice blasting cleaning apparatus.
  6. Endisch, Denis H., Edge bead removal for spin-on materials containing low volatility solvents using carbon dioxide cleaning.
  7. Watkins,Cory; Harless,Mark; Abraham,Francy, Edge inspection.
  8. Sim, Hak Chuah, Edge normal process.
  9. Li,Falai, Fiber optic darkfield ring light.
  10. Li,Falai, Fiber optic darkfield ring light.
  11. Banerjee, Souvik; Chung, Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
  12. Banerjee,Souvik; Chung,Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
  13. Tamura, Akitake; Kakimoto, Akinobu; Dobashi, Kazuya, Method and device for cleaning a substrate and storage medium.
  14. Holden, James Matthew; Suh, Song-Moon; Egan, Todd; Ghosh, Kalyanjit; Volfovski, Leon; Rice, Michael R.; Giljum, Richard, Methods and apparatus for substrate edge cleaning.
  15. Benson, Peter A., Non-chemical, non-optical edge bead removal process.
  16. Benson, Peter A., Non-chemical, non-optical edge bead removal process.
  17. Simpkins,Patrick, Photoresist edge bead removal measurement.
  18. Takano, Masamune, Processing apparatus, nozzle, and dicing apparatus.
  19. Watkins, Cory; Simpkins, Patrick, Product setup sharing for multiple inspection systems.
  20. Palm, Troy; Barr, Kevin J.; Sowden, Ralph P.; Laberge, Matthew M.; MonJoseph, Andrey; Delsey, Brian; Nordick, Emily; Sobotka, Richard; Suresh, Chetan, Substrate handler.
  21. Palm, Troy; Barr, Kevin J.; Sowden, Ralph P.; Laberge, Matthew M.; Monjoseph, Andrey; Delsey, Brian; Nordick, Emily; Sobotka, Richard; Suresh, Chetan, Substrate handler.
  22. Banerjee, Souvik; Chung, Harlan Forrest, Vapor-assisted cryogenic cleaning.
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