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Pure fused silica, furnace and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-005/14
  • C03B-005/43
출원번호 US-0658200 (2000-09-08)
발명자 / 주소
  • Pavlik, Jr., Robert S.
  • Kotacska, Lawrence H.
출원인 / 주소
  • Corning Incorporated
대리인 / 주소
    Murphy, Edward F.Douglas, Walter M.
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 18

초록

An article of relatively pure silica, and a furnace and method of producing the article. The article is produced by collecting molten silica particles in a refractory furnace in which at least a portion of the refractory has been exposed to a halogen-containing gas to react with contaminating metal

대표청구항

An article of relatively pure silica, and a furnace and method of producing the article. The article is produced by collecting molten silica particles in a refractory furnace in which at least a portion of the refractory has been exposed to a halogen-containing gas to react with contaminating metal

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Maxon John E. (Canton NY), Boule oscillation patterns in methods of producing fused silica glass.
  2. Pavlica Stanley R. (Irwin PA) Whittemore Dwight S. (Bethel Park PA), Burned high purity refractories with low soluble chromium.
  3. Michael David J. (White Oak PA) Renkey Albert L. (Bridgeville PA) McGowan Kenneth A. (N. Huntingdon PA), Burned refractories with low soluble chromium.
  4. Schermerhorn Paul M., Furnace for producing fused silica glass.
  5. Maxon John E. ; Pavlik ; Jr. Robert S. ; Sempolinski Daniel R. ; Wasilewski Michael H., Fused SiO.sub.2 -TiO.sub.2 glass method.
  6. Negroni Eugenio (Via De Rolandi 7 20156 Milan ITX) Negroni Roberto (Via De Rolandi 7 20156 Milan ITX), Honeycomb muffle in tank furnaces for glass melting.
  7. Sempolinski Daniel R. (Painted Post NY) Swaroop Latha I. (Painted Post NY), Low sodium zircon refractory and fused silica process.
  8. Maxon John E. (Canton NY), Method and containment vessel for producing fused silica glass and the fused silica blank produced.
  9. Sempolinski Daniel R. (Painted Post NY) Swaroop Latha I. (Painted Post NY), Method for producing fused silica with low sodium ion contamination level.
  10. Hara, Ryoichi; Kuroha, Toshiaki; Inagaki, Nobuo, Method of fabricating optical glass base material and apparatus for fabricating the same.
  11. Dobbins Michael S. (Wilmington NC) McLay Robert E. (Corning NY), Method of making fused silica by decomposing siloxanes.
  12. Clasen Rolf (Aachen DEX), Method of manufacturing glass or ceramic bodies.
  13. Papanikolau Emmanuel (Eindhoven NLX) Ebben Leonard T. M. (Eindhoven NLX), Method of purifying quartz sand.
  14. Weil Sanford A. (Edwards NY) Xiong Tian-yu (Hinsdale IL) Fleming Donald K. (Park Ridge IL), Process and apparatus for high temperature combustion.
  15. Nel Jonathan (Verwoerdburg ZAX), Process for reacting dissociated zircon with gaseous hydrogen fluoride.
  16. Englisch Wolfgang (Kelkheim DEX) Leber Helmut (Hanau DEX) Reimann Klaus (Rodenbach DEX) Simmat Fritz (Gelnhausen DEX), Process for the purification of granular silicon dioxide.
  17. Zanoli Alain Paul Bernard,FRX ; Boussant-Roux Yves,FRX, Refractory material consisting of .beta. alumina.
  18. Wehrenberg Thomas M. (Jeffersonville IN) McGarry Charles N. (Clarksville IN) Mahe Sylvie (Fresnes WV FRX) Drake Douglas A. (Buckhannon WV), Zircon refractories with improved thermal shock resistance.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Marley, Floyd E.; Sempolinski, Daniel R.; Sproul, Merrill F., Furnaces for fused silica production.
  2. Harris, Michael D.; Pavlik, Jr., Robert S., Method and apparatus for fused silica production.
  3. Pavlik, Jr., Robert S., Method for pure, fused oxide.
  4. Fagan, James Gerard; Likitvanichkul, Sumalee; Sempolinski, Daniel Raymond, Method for suppressing metal contamination in high temperature treatment of materials.
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