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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0612561 (2000-07-07) |
우선권정보 | JP-0192994 (1999-07-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 37 인용 특허 : 16 |
There is provided a method of making a high-melting metal powder which has high purity and excellent formability and, particularly, of a metal powder of spherical particles made of Ta, Ru, etc. having a higher melting point than iron. There is also provided a target of high-melting metal or its allo
1. A sputtering target obtained by performing pressure sintering of a powder obtained by introducing a powder material mainly composed of a refractory metal into a thermal plasma into which a hydrogen gas has been introduced, said powder material being mainly composed of Ta or Ru and the shape of pa
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