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특허 상세정보

Vacuum processing chamber with controlled gas supply valve

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C23C-016/00    H05H-001/00    F11D-003/00   
미국특허분류(USC) 118/710; 118/715; 118/692; 156/345.26; 156/345.33; 137/624.11; 137/906
출원번호 US-0658044 (2000-09-08)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Honeycutt, Timothy M.
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 9
초록

An apparatus for and a method of introducing a gas into a vacuum processing chamber are provided. In one aspect, a processing apparatus is provided that includes a vacuum processing chamber, a first source of gas coupled to the vacuum processing chamber, and a fluid actuated valve for regulating the flow of the gas from the first source of gas to the vacuum processing chamber. The fluid actuated valve is operable to open in response to a flow of an actuating fluid and has a minimum valve opening pressure. A valve is provided for enabling the actuating fl...

대표
청구항

An apparatus for and a method of introducing a gas into a vacuum processing chamber are provided. In one aspect, a processing apparatus is provided that includes a vacuum processing chamber, a first source of gas coupled to the vacuum processing chamber, and a fluid actuated valve for regulating the flow of the gas from the first source of gas to the vacuum processing chamber. The fluid actuated valve is operable to open in response to a flow of an actuating fluid and has a minimum valve opening pressure. A valve is provided for enabling the actuating fl...