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Method for preparation of metal oxide doped cerium oxide 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01F-017/00
출원번호 US-0867585 (2001-05-31)
우선권정보 JP-0144664 (1999-05-25)
발명자 / 주소
  • Yabe, Sinryo
  • Tofukuji, Kota
  • Momose, Shigeyoshi
  • Yoshida, Sakae
  • Tahira, Kazuyuki
  • Sato, Tsugio
출원인 / 주소
  • Nippon Dewho Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Sherman & Shalloway
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 2

초록

A metal oxide doped cerium oxide has an excellent ultraviolet ray shielding effect and transparency and reduced catalytic activity. The doping mextal oxide is an oxide of a metal ion having larger ion radius than that of Ce4+and/or lower valence metal ion than Ce4+,such as Ca2+,Y3+,La3+,Nd3+,Eu3+,Tb

대표청구항

A metal oxide doped cerium oxide has an excellent ultraviolet ray shielding effect and transparency and reduced catalytic activity. The doping mextal oxide is an oxide of a metal ion having larger ion radius than that of Ce4+and/or lower valence metal ion than Ce4+,such as Ca2+,Y3+,La3+,Nd3+,Eu3+,Tb

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Mlard Pierre (Lagord FRX) Peltier Marcel (La Rochelle FRX) Tastu Francis (Nieul/sur/Mer FRX), Cerium based glass polishing compositions.
  2. Seiyama Tetsuro (Fukuoka JPX) Arai Hiromichi (Fukuoka JPX) Kunisaki Toshiya (Fukuoka JPX), Material of oxygen ion conductor.

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Minami, Hisataka; Akutsu, Toshiaki; Iwano, Tomohiro; Fujisaki, Koji, Abrasive, abrasive set, and method for abrading substrate.
  2. Burba, III, John L.; Hassler, Carl R.; O'Kelley, C. Brock; Lupo, Joseph A.; Pascoe, Joseph R., Apparatus for treating a flow of an aqueous solution containing arsenic.
  3. Burba, John, Composition and process for making the composition.
  4. Burba, III, John L., Composition for treating a fluid.
  5. Yoshikawa, Tatsuya, Exhaust gas purifying catalyst.
  6. Kumar,Sujeet, High luminescence phosphor particles and methods for producing the particles.
  7. Iwano, Tomohiro; Minami, Hisataka; Akimoto, Hirotaka, Method for producing abrasive grains, method for producing slurry, and method for producing polishing liquid.
  8. Burba, III, John L.; Oriard, Tim L., Process and apparatus for treating a gas containing a contaminant.
  9. Cable, Robert; Hassler, Carl; Burba, John, Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species.
  10. Psaras, Dimitrios; Gao, Yuan; Haneline, Mason; Lupo, Joseph; Landi, Carol, Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions.
  11. Iwano, Tomohiro; Akimoto, Hirotaka; Narita, Takenori; Kimura, Tadahiro; Ryuzaki, Daisuke, Slurry, polishing fluid set, polishing fluid, and substrate polishing method using same.
  12. Iwano, Tomohiro, Slurry, polishing liquid set, polishing liquid, method for polishing substrate, and substrate.
  13. Iwano, Tomohiro, Slurry, polishing liquid set, polishing liquid, method for polishing substrate, and substrate.
  14. Iwano, Tomohiro; Narita, Takenori; Ryuzaki, Daisuke, Slurry, polishing liquid set, polishing liquid, method for polishing substrate, and substrate.
  15. Iwano, Tomohiro; Minami, Hisataka; Akutsu, Toshiaki; Fujisaki, Koji, Slurry, polishing-solution set, polishing solution, substrate polishing method, and substrate.
  16. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Water purification device for arsenic removal.
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