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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0175716 (1998-10-20) |
우선권정보 | JP-0287068 (1997-10-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 24 |
A laser repair apparatus comprises a stage for a wafer to be mounted on, a laser beam source for emitting a laser beam, focus adjusting means for adjusting a focus of the laser beam, and focal point measuring means for measuring a focal point of the laser beam with respect to the wafer on the stage,
1. A laser repair method for a semiconductor wafer, comprising the following steps of: measuring a focal point of a laser beam on the wafer on a stage, adjusting a focus on each required part to be repair-processed, setting a focal point on which the laser beam is focused at a prescribed positi
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