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Method and apparatus for measuring amount of gas adsorption 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-015/08
  • G01M-003/02
  • G01M-003/36
출원번호 US-0083609 (2002-02-27)
발명자 / 주소
  • Nakai, Kazuyuki
출원인 / 주소
  • Bel Japan, Inc.
대리인 / 주소
    Armstrong, Westerman & Hattori, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 11

초록

In a volumetric gas adsorption measuring method, an initial dead volume of the sample cell and an initial dead volume of a reference cell at the same time point are preliminarily determined. When the gas adsorption on the solid sample is to be measured, a change in the dead volume of the sample cell

대표청구항

In a volumetric gas adsorption measuring method, an initial dead volume of the sample cell and an initial dead volume of a reference cell at the same time point are preliminarily determined. When the gas adsorption on the solid sample is to be measured, a change in the dead volume of the sample cell

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Chin H. Chang ; Ulrich Bonne ; Richard A. Alderman, Adsorption based carbon monoxide sensor and method.
  2. Cooper Charles D. (Maitland FL) Reinhart Debra R. (Oviedo FL) Seligman Debra R. H. (Altamonte Springs FL), Apparatus for measuring gas emission rate from soil.
  3. Shimizu Naohito,JPX ; Akiyama Shigeyuki,JPX ; Fujiwara Masahiko,JPX ; Inoue Satoshi,JPX ; Oida Takuji,JPX, Gas analyzing apparatus.
  4. Lehmann Martin (Obere Farnbhlstrasse 1 5610 Wohlen CHX), Method and apparatus for leak testing a hollow body.
  5. Witschi Friedrich (Buren an der Aare CHX), Method and apparatus for testing the tightness of housings.
  6. Lehmann Martin,CHX, Method for leak testing and leak testing apparatus.
  7. Nuttall Michael ; Hurley Kelly, Methods for measuring surface area.
  8. Nuttall Michael (Meridian ID) Hurley Kelly (Boise ID), Methods for measuring the surface area of a semiconductor wafer.
  9. Williams Edward W. (Keele GB3), Production of a sensor for carbon monoxide or water vapor including a semi conductor metallic oxide, catalyst, and rheol.
  10. Killip Graham R. (Doraville GA) Camp Ronnie W. (Duluth GA) Orr ; Jr. Clyde (Dunwoody GA), Temperature controlling apparatus for use with pore volume and surface area analyzers.
  11. Baresel Detlef (Stuttgart DEX) Scharner Peter (Leonberg Gebersheim DEX), Zeolites as specific adsorbents for NOX and CO.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Endo, Akira; Shimomura, Marie; Taniguchi, Satoshi; Nakai, Kazuyuki; Yoshida, Masayuki; Okawa, Makoto, Adsorption characteristic measuring apparatus.
  2. Matsukata, Masahiko; Nakai, Kazuyuki; Yoshida, Masayuki, Adsorption characteristic measuring apparatus.
  3. Ramos, Enrique Gadea; Lacov, Sean C.; Pierce, Brandegee C.; Solar-Schultz, Armando H.; Thommes, Matthias; Wahlfrid, Karl M.; Woodcock, Albert J., Cryogenic temperature controller for volumetric sorption analyzers.
  4. Valenza, II, John J.; Drenzek, Nicholas J.; Marques, Flora; Grotheer, Hendrik; Willberg, Dean M., Gas sorption analysis of unconventional rock samples.
  5. Iiyama, Taku; Nakai, Kazuyuki, Method of measuring information for adsorption isostere creation, adsorption isostere creation method, adsorption heat calculation method, computer program, and measurement system.
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