[특허]Ion-sensitive, water-dispersible polymers, a method of making same and items using same

Ion-sensitive, water-dispersible polymers, a method of making same and items using same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B32B-027/00 B32B-027/08 B32B-027/34 D04H-001/00 A61F-013/15
출원번호	US-0564837 (2000-05-04)
발명자 / 주소	Chen, Franklin M. Branham, Kelly D. Johnson, Eric D. Lang, Frederick J. Lindsay, Jeffrey D. Schick, Kim G. Schultz, Walter T. Sun, Tong Soerens, Dave A. Chang, Yihua Pomplun, William S. Ja
출원인 / 주소	Kimberly-Clark Worldwide, Inc.
대리인 / 주소	Kilpatrick Stockton LLP
인용정보	피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 300

초록 ▼

대표청구항 ▼

The present invention is directed to ion-sensitive, water-dispersible polymers. The present invention is also directed to a method of making ion-sensitive, water-dispersible polymers and their applicability as binder compositions. The present invention is further directed to fiber-containing fabrics and webs comprising ion-sensitive, water-dispersible binder compositions and their applicability in water-dispersible personal care products. to a surface of the sample following the etching step. 17. A method of producing a structure for III-V semiconductor components, which comprises: applying a mask to a sample in a masking step, the mask having at least one mask material including a monocrystalline III-V semiconductor material; etching with tertiary butyl chloride at an etch rate dependent upon a composition of the at least one mask material to dissolve the mask during the etching and remove the mask from the sample by the end of the etching step; and creating a structure at least one of the group consisting of on the mask and in the mask after etching.

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