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Method and apparatus for immersion treatment of semiconductor and other devices 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-007/04
출원번호 US-0865875 (2001-05-25)
발명자 / 주소
  • Dryer, Paul William
  • Tirendi, Richard Scott
  • Sundin, James Bradley
출원인 / 주소
  • Z Cap, L.L.C.
대리인 / 주소
    Moy, Jeffrey D.Weiss, Harry M.Weiss, Moy & Harris, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 28

초록 ▼

Method and apparatus for cleaning semiconductor devices and other workpieces using an aqueous rinse solution which is de-oxygenated by passing the aqueous rinse solution and a carrier gas through an osmotic membrane degasifier. A cleaning chamber is also disclosed for carrying out the cleaning metho

대표청구항 ▼

Method and apparatus for cleaning semiconductor devices and other workpieces using an aqueous rinse solution which is de-oxygenated by passing the aqueous rinse solution and a carrier gas through an osmotic membrane degasifier. A cleaning chamber is also disclosed for carrying out the cleaning metho

이 특허에 인용된 특허 (28)

  1. Harada Yasuyuki,JPX ; Netsu Shigeyoshi,MYX, Apparatus and method for cleaning semiconductor wafers.
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  2. Vetter William L. (American Fork UT) Mortensen Dennis L. (Sandy UT), Apparatus for cleaning and rinsing wafers.
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  3. Mashimo Noriyoshi (Tokyo JPX) Okumura Katsuya (Yokohama JPX), Arrangement for cleaning semiconductor wafers using mixer.
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  4. Nakajima Kazuo (Shiga-ken JPX) Tanaka Katsunori (Shiga-ken JPX), Chemical agent producing device and method thereof.
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  5. Fulk ; Jr. C. William ; Lowery James J. ; Runkle Charles J., Contactor for degassing liquids.
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  6. Thrasher David L. ; Hearne John S. ; Ryle Lynn S., Contamination control in substrate processing system.
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  7. Cohen Susan ; Cooper Emmanuel I. ; Penner Klaus,DEX ; Rath David L. ; Srivastava Kamalesh K., Control of gas content in process liquids for improved megasonic cleaning of semiconductor wafers and microelectronics.
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  8. Cho Kwantai (Charlotte NC) Huang Xiaoyan (Charlotte NC), Degassing liquids: apparatus and method.
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  9. Yamanaka Koji,JPX ; Imaoka Takashi,JPX ; Futatsuki Takashi,JPX ; Yamashita Yukinari,JPX, Equipment and process for producing high-purity water.
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  10. Ciari Richard P. (San Jose CA), Final rinse/dry system for critical cleaning applications.
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  11. Tanabe Madoka,JPX ; Kaneko Sakae,JPX, High-purity water producing apparatus utilizing boron-selective ion exchange resin.
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  12. Dryer Paul William ; Tirendi Richard Scott ; Sundin James Bradley, Method and apparatus for immersion cleaning of semiconductor devices.
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  13. Dryer Paul William ; Tirendi Richard Scott ; Sundin James Bradley, Method and apparatus for immersion treatment of semiconductor and other devices.
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  14. Pisani Joseph (Sierra Madre CA), Method and apparatus for removing oxidizable contaminants in water to achieve high purity water for industrial use.
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  15. Aoki Hidemitsu (Tokyo JPX) Nakajima Tsutomu (Tokyo JPX), Method and apparatus for wet treatment of solid surfaces.
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  16. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Method and system for fluid treatment of semiconductor wafers.
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  17. Davison Michael J. (Mesa AZ) Dryer Paul W. (Mesa AZ) Wilson Wendy K. (Mesa AZ), Method for etching a dielectric layer on a semiconductor.
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  18. Dryer Paul William ; Davison Michael J. ; Dyrsten Ralph A., Method for etching a dielectric layer over a semiconductor substrate.
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  19. Park Sung-Kil (Kyoungki KRX) Kim Dong-Sauk (Seoul KRX) Yoon Yong-Hyeock (Seoul KRX), Method for forming a via contact hole of a semiconductor device.
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  20. Rolfson J. Brett, Method for reducing gaseous species of contamination in wet processes.
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  21. Winebarger Paul M. (Austin TX), Process for fabricating a semiconductor device using re-ionized rinse water.
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  22. Weaver Thomas J. M. (56 Alexander Rd. Billerica MA 01821), Recycling and recovery of aqueous cleaner solutions and treatment of associated rinse water.
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  23. Hanson Arnold M. ; Chandler Thomas Donald, Refrigerant recovery and recycling system.
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  24. Chung Bryan C. (Hampton NJ) DiBello Gerald N. (Boyertown PA) Pearce Charles W. (Emmaus PA) Yanders Kevin P. (Allentown PA), Semiconductor wafer cleaning and rinsing techniques using re-ionized water and tank overflow.
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  25. Dryer Paul William ; Tirendi Richard Scott ; Sundin James Bradley, Semiconductor wafer treatment.
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  26. Nafziger Charles P. (2445 E. Encanto Mesa AZ 85213), Single-chamber cleaning, rinsing and drying apparatus and method therefor.
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  27. Filson James L. (Wexford PA) Carrera Wesley R. (San Antonio TX) Bhave Ramesh R. (Cranberry Township PA), Ultra pure water filtration.
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  28. Boyce Allen R. (Portland OR) Yates James S. (Vancouver WA), Water purification system and method.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Kenowski, Andy; Bohanon, Leo F., Chemical concentration controller and recorder.
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  2. Wake, Tomoko, Cleaning-apparatus line configuration and designing process therefor.
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  3. Spalteholz,Bernhard Alexander; Nielsen,Geoffrey Paul, Dry ice blasting cleaning apparatus.
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