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Photopolymerizable composition and photopolymerizable lithographic printing plate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/038
출원번호 US-0079408 (2002-02-22)
우선권정보 JP-0235216 (1999-08-23); JP-0200400 (2000-07-03); JP-0207841 (2000-07-10); JP-0207842 (2000-07-10)
발명자 / 주소
  • Urano, Toshiyuki
출원인 / 주소
  • Mitsubishi Chemical Corporation
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 12

초록

A photopolymerizable composition which is highly sensitive to light in the visible region and long-wavelength regions including the near infrared region, is not sensitive to light in the ultraviolet region, and has excellent handling efficiency under day light fluorescent lamps. The composition cont

대표청구항

A photopolymerizable composition which is highly sensitive to light in the visible region and long-wavelength regions including the near infrared region, is not sensitive to light in the ultraviolet region, and has excellent handling efficiency under day light fluorescent lamps. The composition cont

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Gottschalk Peter (Centerville OH) Schuster Gary B. (Champaign IL), Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same.
  2. Gottschalk Peter (Centerville OH) Schuster Gary B. (Champaign IL), Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same.
  3. Gottschalk Peter (Centerville OH) Schuster Gary B. (Champaign IL), Photohardenable compositions containing a dye-borate complex and photosensitive materials employing the same.
  4. Nagasaka Hideki (Yamato JPX) Ohta Katsuko (Yokohama JPX), Photopolymerizable composition.
  5. Kondo Syunichi (Shizuoka JPX) Fujita Kazuo (Shizuoka JPX), Photopolymerizable composition containing a sensitizing dye and a titanocene compound.
  6. Yasufumi Murota JP; Tadahiro Sorori JP, Photopolymerizable composition for short wavelength semiconductor laser exposure.
  7. Urano Toshiyuki,JPX ; Nagao Takumi,JPX ; Hino Etsuko,JPX, Photopolymerizable composition, photopolymerizable lithographic printing plate and process for forming an image.
  8. Nagasaka Hideki,JPX ; Murata Akihisa,JPX ; Urano Toshiyuki,JPX ; Takasaki Ryuichiro,JPX, Photosensitive composition and lithographic printing plate.
  9. Takasaki Ryuichiro,JPX ; Urano Toshiyuki,JPX, Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it.
  10. Nishimiya Nobuyuki,JPX ; Nagase Hiroyuki,JPX, Photosensitive printing plate.
  11. Fleming James C. ; Leon Jeffrey W. ; Stegman David A. ; Williams Kevin W., Thermal imaging composition and member containing sulfonated ir dye and methods of imaging and printing.
  12. James C. Fleming ; Jeffrey W. Leon ; David A. Stegman ; Kevin W. Williams, Thermal switchable composition and imaging member containing cationic IR dye and methods of imaging and printing.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Tsuchimura,Tomotaka, Ink composition, inkjet recording method, printed material, process for producing lithographic printing plate, and lithographic printing plate.
  2. Balbinot, Domenico; Baumann, Harald; Dwars, Udo; Jarek, Mathias; Simpson, Christopher D., Negative-working lithographic printing plate precursors.
  3. Balbinot, Domenico; Baumann, Harald; Dwars, Udo; Jarek, Mathias; Matz, James R.; Simpson, Christopher D., Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes.
  4. Balbinot, Domenico; Baumann, Harald; Dwars, Udo; Jarek, Mathias; Matz, James Russell; Simpson, Christopher D., Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes.
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