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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0203503 (1998-12-01) |
우선권정보 | JP-0330158 (1997-12-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 10 |
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1. A method for reusing sulfuric acid contained in a waste liquid mixture comprising sulfuric acid and peroxide, the waste liquid mixture being generated in a semiconductor manufacturing process, the method comprising: collecting the waste liquid mixture; decomposing the peroxide of the waste li
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