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Method for utilizing sulfuric acid/peroxide liquid mixture 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-017/90
  • C02F-001/58
출원번호 US-0203503 (1998-12-01)
우선권정보 JP-0330158 (1997-12-01)
발명자 / 주소
  • Inagaki, Yasuhito
출원인 / 주소
  • Sony Corporation
대리인 / 주소
    Sonnenschein, Nath & Rosenthal LLP
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 10

초록

A technique of utilizing a sulfuric acid/peroxide liquid mixture, for example, its waste liquid material, is to be developed so that the waste liquid can be re-utilized and effectively applied to obviate the problem resulting from disposal. To this end, there is provided a method for utilizing a sul

대표청구항

1. A method for reusing sulfuric acid contained in a waste liquid mixture comprising sulfuric acid and peroxide, the waste liquid mixture being generated in a semiconductor manufacturing process, the method comprising: collecting the waste liquid mixture; decomposing the peroxide of the waste li

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Otani Sugio (Kiryu JPX) Tsuyuguchi Michio (Urawa JPX) Kano Haruyuki (Ibaragi JPX) Sone Yoshihisa (Ibaragi JPX) Kageyama Kenji (Tokyo JPX) Mabuchi Toshiaki (Chofu JPX), Condensed polycyclic, polynuclear aromatic thermosetting resin having good moldability and heat resistance; and preparat.
  2. Anton David L. (Wilmington DE) Arduengo ; III Anthony J. (Wilmington DE) DiCosimo Robert (Wilmington DE), Enzymatic oxidation of glycolic acid in the presence of non-enzymatic catalyst for decomposing hydrogen peroxide.
  3. Watanabe Junya (Tokyo JPX) Kurata Tsunehiko (Yokohama JPX), Method for producing a spherical ion exchange resin.
  4. Hagimori Kenji (Kawaguchi JPX) Abe Yuzuru (Hanyu JPX) Kanke Tetsuo (Misato JPX), Method of decomposing hydrogen peroxide.
  5. Hagimori Kenji (Kawaguchi JPX) Abe Yuzuru (Hanyu JPX) Kanke Tetsuo (Misato JPX), Method of decomposing hydrogen peroxide.
  6. Tanjo Mitsuo (Sendai JPX) Ashitani Toshio (Niihama JPX) Fujita Tetsuo (Niihama JPX) Sakata Katsuhiro (Niihama JPX) Nakada Mikitoshi (Ichihara JPX), Process for preparing aluminum sulfate.
  7. Kobayashi Yukio (Yokohama JPX) Shirakawa Hideki (Yokohama JPX) Ikeda Sakuji (Tokyo JPX), Process for producing electrically conductive high polymer of acetylene.
  8. Toba Taketo (Hyogo JPX) Takei Kazuo (Osaka JPX) Matsunaga Toshiaki (Osaka JPX) Ikeuchi Hiroyuki (Osaka JPX) Tamura Fumihide (Shiga JPX), Process for producing polymer having hydroxyl group at both terminals.
  9. Grigat Ernst (Cologne DT) Hetzel Hartmut (Cologne DT), Process for the continuous degradation of plastics.
  10. Dobson Jesse C. (Oakland CA), Sulfuric acid reprocessor.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Carlson,Grant Edward; Cunha,Karl Heinz, Carrier device and method for a multiple disc array.
  2. Hayamizu, Naoya; Shibata, Yukihiro; Kato, Masaaki; Fukui, Hiroyuki, Cleaning system and cleaning method.
  3. Inagaki, Yasuhito, Method for utilizing sulfuric acid/peroxide liquid mixture.
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