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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0028462 (2001-12-28) |
우선권정보 | JP-0001633 (2001-01-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 7 |
A measurement method of measuring wavefront aberration of a projection optical system in a projection exposure apparatus for projecting a reticle pattern onto a substrate via the projection optical system. The method includes a measurement step of measuring intensity of a light beam having passed th
A measurement method of measuring wavefront aberration of a projection optical system in a projection exposure apparatus for projecting a reticle pattern onto a substrate via the projection optical system. The method includes a measurement step of measuring intensity of a light beam having passed th
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