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특허 상세정보

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Gas treatment apparatus

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C23C-016/00   
미국특허분류(USC) 118/726; 118/715; 118/724
출원번호 US-0735627 (2000-12-14)
우선권정보 JP-0013218 (1998-01-07); JP-0078395 (1998-03-11)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 16
초록
▼

A gas flow regulating surface portion 37a is the farthest from the front surface of a wafer W in the middle between a peripheral portion of the wafer W and a center portion of a sealing vessel. The gas flow regulating portion 37a protrudes to the front surface of the wafer W in the vicinity of a center portion that surrounds an exhausting opening 35a. In other words, a convex portion 37c is formed in a peripheral area of the gas flow regulating surface portion 37a that surrounds the exhausting opening 35a. Since treatment gas flows along the front surfac...

대표
청구항
▼

1. A gas treatment apparatus, comprising: a sealing vessel for holding a coated substrate; a heating means for heating the inside of said sealing vessel so as to gelatinize the coating of the substrate; a gas supplying path for supplying vapor of a solvent to said sealing vessel; an exhausting path for exhausting gas out of said sealing vessel; a first reservoir tank for reserving a solution of the solvent, bubbling the solution with a carrier gas, and supplying the vapor of the solvent to said sealing vessel through said gas supplying path; a fi...

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Page ; Jr. Theron V. (Lake Oswego OR) Boydston Thomas F. (Tualatine OR) Posa John G. (Tigard OR). Apparatus to provide a vaporized reactant for chemical-vapor deposition. USP1989074844006.
  2. Hayakawa Yukihiro (Atsugi JPX) Kawasumi Yasushi (Fujisawa JPX) Makino Kenji (Yokohama JPX) Kataoka Yuzo (Atsugi JPX). Chemical vapor deposition method. USP1996125580822.
  3. Koji Sakai JP. Coating film formation apparatus and aging process apparatus. USP2002066409838.
  4. Takimoto Hiroaki (Yokohama JPX) Miyajiri Tetsuo (Yokohama JPX) Yoshida Kiminobu (Yokohama JPX) Turita Tamio (Yokohama JPX). Gas supplying apparatus. USP1986014563312.
  5. Takeshita Kazuhiro,JPX ; Nagashima Shinji,JPX ; Mizutani Yoji,JPX ; Katayama Kyoshige,JPX. Gas treatment apparatus. USP2001026190459.
  6. Omori Tsutae (Yamanashi JPX) Harada Kouji (Kumamoto JPX) Satoh Takami (Kumamoto JPX) Anai Noriyuki (Kumamoto JPX) Nomura Masafumi (Kumamoto JPX). Hydrophobic processing apparatus including a liquid delivery system. USP1996045505781.
  7. Shiraishi Masatoshi (Kikuchi JPX) Hamada Tomoko (Kumamoto JPX). Method and apparatus for hydrophobic treatment. USP1995035401316.
  8. Lynch Brian (Norcross GA) Narasimham Pundi L. (Norcross GA) Partus Fred P. (Marietta GA). Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture. USP1986044582480.
  9. Stauffer Craig M. (3066 Scott Blvd. Santa Clara CA 95054). Module in an integrated delivery system for chemical vapors from liquid sources. USP1995035399200.
  10. Moriyama, Masashi; Yamahira, Yutaka; Matsuyama, Yuji. Processing liquid supply unit. USP1991075035200.
  11. Miyajiri, Tetsuo; Habasaki, Toshimi; Yokota, Hiroshi; Tsurita, Tamio; Nakahara, Motohiro. Raw material supply device. USP1985104545801.
  12. Jinnouchi Shimpei (Nirasaki JPX) Kuno Hiroshi (Komae JPX) Otsuki Hiroshi (Tokyo JPX). Semiconductor treatment apparatus. USP1996115575854.
  13. Partus Fred P. (Cobbs County GA). Vapor delivery control system and method. USP1981064276243.
  14. Partus Fred P. (Atlanta GA). Vapor delivery system and method. USP1980094220460.
  15. Partus Fred P. (Cobb County GA). Vapor delivery system and method of maintaining a constant level of liquid therein. USP1980114235829.
  16. McMenamin Joseph C. (Oceanside CA). Vapor mass flow control system. USP1984034436674.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 8

  1. Kim, Changsung Sean; Yoo, Sang Duk; Hong, Jong Pa; Shim, Ji Hye; Lee, Won Shin. Chemical vapor deposition apparatus. USP2012108298338.
  2. Begarney, Michael J.; Campanale, Frank J.. Chemical vapor deposition reactor. USP2014078778079.
  3. Hara, Masamichi. Film forming apparatus and film forming method. USP2013088518181.
  4. Rius, Jean-Michel. Gas feed installation for machines depositing a barrier layer on containers. USP2013028382904.
  5. Takeshita, Kazuhiro; Nagashima, Shinji; Mizutani, Yoji; Katayama, Kyoshige. Gas treatment apparatus. USP2004106808567.
  6. Dhindsa, Rajinder; Srinivasan, Mukund. Process tuning gas injection from the substrate edge. USP2012018097120.
  7. Kang, Gu-Young. Raw material providing device for chemical vapor deposition process. USP2005126978984.
  8. Fovell, Richard; Brillhart, Paul; Yi, Sang In; Khan, Anisul H.; Dinev, Jivko; Nevil, Shane. Substrate support temperature control. USP2013128596336.

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