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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0301311 (1999-04-29) |
우선권정보 | JP-0136145 (1998-04-30); JP-0136146 (1998-04-30); JP-0136149 (1998-04-30); JP-0136150 (1998-04-30); JP-0136153 (1998-04-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 3 |
The object of the present invention IS to provide an optical imprinting apparatus and method for producing a two-dimensional pattern, having line widths less than the wavelength of an exposure light. The evarnescent (proximity) field effect is adopted to realize the apparatus and method. An optical
1. An optical imprinting apparatus comprising: a container in which light is enclosed therein; an exposure-mask having a proximity field exposure pattern fixed to a section of said container for exposing said exposure pattern on a photo-sensitive material through an evanescent field by said ligh
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