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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0749520 (2000-12-28) |
우선권정보 | DE-0063433 (1999-12-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 7 |
Chlorosilanes are continuously removed from a gas stream in an apparatus in which the gas stream is treated in a first stage with water vapor in the gas phase, and in a second stage with a liquid, aqueous phase.
1. A continuous process for removing chlorosilanes from a gas stream, comprising: contacting a gas stream containing at least one chlorosilane with water vapor in the gas phase in a first stage, and contacting said gas stream with a liquid, aqueous phase in a second stage. 2. The process of cl
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