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Plasma treatment of processing gases 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01J-019/08
출원번호 US-0888191 (2001-06-22)
발명자 / 주소
  • Lazarovich, Stela Diamant
  • Rosenberg, Avner
  • Shiloh, Joseph
  • Statlender, Joseph
  • Wurzberg, Elhanan
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Dalhuisen, Albert J.
인용정보 피인용 횟수 : 25  인용 특허 : 15

초록 ▼

The present invention provides a DBD cell (500) including ring shaped electrodes (512 and 514) that are positioned side-by-side on a dielectric tube (516). An AC power supply (518) is provided such that the cell and the power supply form a DBD treatment device (540) for abatement of noxious gases fo

대표청구항 ▼

The present invention provides a DBD cell (500) including ring shaped electrodes (512 and 514) that are positioned side-by-side on a dielectric tube (516). An AC power supply (518) is provided such that the cell and the power supply form a DBD treatment device (540) for abatement of noxious gases fo

이 특허에 인용된 특허 (15)

  1. Liou Huei Tarng,TWX, Apparatus for efficient ozone generation.
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  2. Suzuki Nagatoshi (5-7-7 ; Kugahara Ota-ku ; Tokyo JPX), Apparatus for producing a streamer corona.
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  3. Marie Bruno (Maurepas FRX) Guerin Daniel (Chelles FRX) Larquet Christian (Guyancourt FRX), Apparatus for the formation of excited or unstable gaseous molecules and uses of such an apparatus.
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  4. Kang Michael (Los Alamos NM), Apparatus for the plasma destruction of hazardous gases.
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  5. D\Aoust James R. (San Diego CA) Ohkawa Tihiro (La Jolla CA), Corona discharge treatment.
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  6. Nohr Ronald S. (Roswell GA) MacDonald John G. (Decatur GA), Corona-assisted electrostatic filtration apparatus and method.
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  7. Gesche Roland (Seligenstadt DEX) Kretschmer Karl-Heinz (Langen DEX), Device for the generation of a plasma.
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  8. Ruan R. Roger ; Chen Paul L. ; Ning Anrong,CNX ; Bogaard Richard L. ; Robinson Donald G. ; Deng Shaobo ; Ma Hongbin ; Bie Chuanshuang, Dielectric barrier discharge system and method for decomposing hazardous compounds in fluids.
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  9. Spence Paul, Electrodes for plasma treater systems.
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  10. Uhm Han S. (Potomac MD), Large scale purification of contaminated air.
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  11. Kong Peter C. (Idaho Falls ID) Lessing Paul A. (Idaho Falls ID), Method and apparatus for producing oxygenates from hydrocarbons.
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  12. Meratla Zoher M. (2275 Westhill Drive West Vancouver ; British Columbia CAX V7S 2Z2), Method and apparatus for removing pollutants from flue gas.
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  13. Shiloh Joseph,ILX ; Rosenberg Avner,ILX ; Wurzberg Elhanan,ILX, Modular dielectric barrier discharge device for pollution abatement.
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  14. Hammer Thomas,DEX ; Kieser Jorg,DEX, Process and device for purifying exhaust gases containing nitrogen oxides.
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  15. Grothaus Michael G. (Dahlgren VA) Korzekwa Richard A. (Dahlgren VA) Hutcherson R. Kenneth (Silver Spring MD), Pulsed corona reactor system for abatement of pollution by hazardous agents.
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이 특허를 인용한 특허 (25)

  1. Chae, Seung-ki; Lee, Sang-gon; Lee, In-ju; Lee, Kyoung-hye; Lee, Yong-hee; Jung, Jin-ok; Shin, Young-jo, Apparatus for decomposing perfluorinated compounds and system for processing perfluorinated compounds using the apparatus.
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  2. Lee, Sang-Yun; Noh, Myung Keun; Oh, Heaungshig, Apparatus for processing exhaust fluid.
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  3. Byl, Oleg; Sturm, Edward A.; Tang, Ying; Yedave, Sharad N.; Sweeney, Joseph D.; Sergi, Steven G.; Chambers, Barry Lewis, Carbon dopant gas and co-flow for implant beam and source life performance improvement.
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  4. Dimeo, Frank; Dietz, James; Olander, W. Karl; Kaim, Robert; Bishop, Steven; Neuner, Jeffrey W.; Arno, Jose; Marganski, Paul J.; Sweeney, Joseph D.; Eldridge, David; Yedave, Sharad; Byl, Oleg; Stauf, Gregory T., Cleaning of semiconductor processing systems.
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  5. Murokh, Igor, Dielectric plasma chamber apparatus and method with exterior electrodes.
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  6. Holland, John Patrick; Ventzek, Peter L. G.; Singh, Harmeet; Shinagawa, Jun; Koshiishi, Akira, E-beam enhanced decoupled source for semiconductor processing.
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  7. Zhang, Jingwei; Auday, Guillaume; Duron, Didier; Bertin-Mourot, Thomas; Visage, Philippe, Electric power supply for at least two electrodes.
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  8. McCutchen, Wilmot H.; McCutchen, David J., Electrohydraulic and shear cavitation radial counterflow liquid processor.
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  9. McCutchen, Wilmot H.; McCutchen, David J., Electrohydraulic and shear cavitation radial counterflow liquid processor.
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  10. Nikic, Dejan, Embedded dielectric structures for active flow control plasma sources.
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  11. Gilbert, James A., Inductively-coupled plasma device.
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  12. Gilbert, James A., Inductively-coupled plasma device.
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  13. Sweeney, Joseph D.; Yedave, Sharad N.; Byl, Oleg; Kaim, Robert; Eldridge, David; Feng, Lin; Bishop, Steven E.; Olander, W. Karl; Tang, Ying, Ion source cleaning in semiconductor processing systems.
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  14. Koo, Il-Gyo; Choi, Myeong Yeol; Collins, Jeremiah H.; Moore, Cameron A.; Rahman, Abdur; Collins, George J., Liquid-gas interface plasma device.
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  15. Koo, Il-Gyo; Collins, George J., Liquid-gas interface plasma device.
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  16. Drabe,Christian; Haensel,Jana; Krasemann,Anke; Lorenz,Barbara; Morgenstern,Thomas; Schneider,Torsten; Spuler,Bruno, Method of forming an isolation layer and method of manufacturing a trench capacitor.
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  17. Koo, Il-Gyo; Moore, Cameron A.; Collins, George J., Plasma-based chemical source device and method of use thereof.
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  18. McCutchen, Wilmot H.; McCutchen, David J., Radial counterflow shear electrolysis.
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  19. Holland, John Patrick; Ventzek, Peter L. G.; Singh, Harmeet; Gottscho, Richard, Semiconductor processing system having multiple decoupled plasma sources.
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  20. Ward, Arlen K.; Sartor, Joe D., System and method for biofilm remediation.
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  21. Sartor, Joe D., System and method for sinus surgery.
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  22. Koo, Il-Gyo; Moore, Cameron A.; Collins, George J.; Cho, Jin-Hoon, System and methods for plasma application.
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  23. Koo, Il-Gyo; Moore, Cameron A.; Collins, George J.; Cho, Jin-Hoon, System and methods for plasma application.
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  24. Moore, Cameron A.; Scott, Douglas A.; Collins, George J., System, method and apparatus for generating plasma.
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  25. Hensley, Paul F., Tuning a dielectric barrier discharge cleaning system.
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