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Antireflection coating for ultraviolet light at large angles of incidence

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02B-005/20
출원번호 US-0012351 (2001-12-12)
우선권정보 DE-0064143 (2000-12-15)
발명자 / 주소
  • Kuschnereit, Ralf
  • Paul, Hans-Jochen
출원인 / 주소
  • Carl Zeiss SMT AG
대리인 / 주소
    Sughrue Mion, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 9

초록

Antireflection multilayer coatings with only three or four layers are proposed for the production of laser resistant optical components with minimal residual reflection and high transparency for UV light in a wavelength range approx. 150 nm to approx. 250 nm at large angles of incidence in the range

대표청구항

1. Optical component having low reflectance for ultraviolet light of a wavelength in a range between approx. 150 nm and approx. 250 nm at large angles of incidence, the optical component comprising: a substrate comprising at least one surface; a multilayer system comprising several stacked layer

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Veerasamy, Vijayen S., Hydrophilic coating including DLC.
  2. Das Palash P. ; Ershov Alexander I. ; Morton Richard G., Line narrowing apparatus with high transparency prism beam expander.
  3. Muratomi Keiji (Warabi JPX), Multi-layered antireflection film preventing reflection at two wavelength regions.
  4. Hashimoto Sigeru (Yokohama JPX) Yokoyama Akihiko (Yokohama JPX), Multi-layered optical film.
  5. Ikeda Hideo (Kamakura JA) Akasaka Hideki (Kawasaki JA), Multilayer anti-reflection film for ultraviolet rays.
  6. Nakamura Hiroshi,JPX ; Shirai Takeshi,JPX, Multilayer antireflection coatings for grazing ultraviolet incident light.
  7. Masaki Hara JP, Multilayer resist structure, and method of manufacturing three-dimensional microstructure with use thereof.
  8. Ueta, Yoshihiro, Nitride group compound semiconductor laser device and method for producing the same.
  9. Hashimoto Shigeru (Yokohama JPX) Yokoyama Akihiko (Yokohama JPX), Two-wavelength antireflection film.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Tanaka,Issei; Murata,Tsuyoshi, Anti-reflection coating, and optical element and optical system with anti-reflection coating.
  2. Kelkar, Parag Vinayak, Anti-reflective coating for optical elements.
  3. Greer, Frank; Jones, Todd J.; Nikzad, Shouleh; Hoenk, Michael E., Atomically precise surface engineering for producing imagers.
  4. Conley, Jr., John F.; Ono, Yoshi; Solanki, Rajendra, Method for depositing a nanolaminate film by atomic layer deposition.
  5. Ausserre, Dominique, Optical component for observing a nanometric sample, system comprising same, analysis method using same, and uses thereof.
  6. Maier,Robert L; Goodman,Douglas S., Polarizer for high-power deep UV radiation.
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