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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0151425 (2002-05-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 114 인용 특허 : 5 |
A radio frequency (RF) generator apparatus for a plasma processing system that is resistant to nonlinear load mismatch conditions is provided. The apparatus includes an RF oscillator configured to generate an RF signal, an RF amplifier responsive to the RF signal to produce a VHF RF signal having su
A radio frequency (RF) generator apparatus for a plasma processing system that is resistant to nonlinear load mismatch conditions is provided. The apparatus includes an RF oscillator configured to generate an RF signal, an RF amplifier responsive to the RF signal to produce a VHF RF signal having su
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