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Stabilized polymer film and its manufacture 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C08F-114/18
출원번호 US-0925712 (2001-08-09)
발명자 / 주소
  • Lee, Chung J.
출원인 / 주소
  • Dielectric Systems Inc.
대리인 / 주소
    Jackson Walker L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 7

초록

Poly (para-xylylene) ("PPX") polymer films are processed under particular conditions in order to maintain their stability for use in integrated circuits. This is primarily achieved by controlling the substrate temperature, feed rate of the polymer precursors, and the environmental conditions. The re

대표청구항

Poly (para-xylylene) ("PPX") polymer films are processed under particular conditions in order to maintain their stability for use in integrated circuits. This is primarily achieved by controlling the substrate temperature, feed rate of the polymer precursors, and the environmental conditions. The re

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Lee Chung J. ; Wang Hui ; Foggiato Giovanni Antonio, Chemicals and processes for making fluorinated poly(para-xylylenes).
  2. Sivaramakrishnam Visweswaren ; Nguyen Bang C. ; Rao Gayathri ; Robles Stuardo ; Fong Gary L. ; Lim Vicente ; Lee Peter W., Method and apparatus for forming a thin polymer layer on an integrated circuit structure.
  3. Beach William F. (Bridgewater NJ) Olson Roger A. (Amery WI) Wary John (Noblesville IN), Method and apparatus for the deposition of parylene AF4 onto semiconductor wafers.
  4. Shi Jianou ; Mountsier Thomas W. ; Plano Mary Anne ; Laia Joseph R., Method of minimizing reactive ion etch damage of organic insulating layers in semiconductor fabrication.
  5. Wary John ; Beach William F. ; Olson Roger A., Parylene polymer layers.
  6. Gomi Hideki,JPX, Residue removal process for forming inter-level insulating layer of paraylene polymer without peeling.
  7. You Lu (Troy NY) Yang Guang-Rong (Troy NY) Lu Toh-Ming (Loudonville NY) Moore James A. (Wynantskill NY) McDonald John F. P. (Clifton Park NY), Vapor deposition of parylene-F using 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Baldwin, Teresa; Kennedy, Joseph; Iwamoto, Nancy; Nakano, Tadashi; Bedwell, William; Stuck, Jason; Suedemeyer, Arlene; Hebert, Mello, Anti-reflective coating for photolithography and methods of preparation thereof.
  2. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  3. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  4. Li, Bo; Kennedy, Joseph; Iwamoto, Nancy; Fradkin, Mark A.; Hussein, Makarem A.; Goodner, Michael D.; Lu, Victor; Leung, Roger, Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof.
  5. Varaprasad, Desaraju; Korolev, Boris; Mukhopadhyay, Sudip, Coating formulations for optical elements.
  6. Lee, Chung J.; Kumar, Atul, Composite polymer dielectric film.
  7. Hendricks, Neil H., Composition and chemical vapor deposition method for forming organic low k dielectric films.
  8. Kennedy, Joseph; Xie, Songyuan; Do, Kim; Mukhopadhyay, Sudip, Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof.
  9. Leung, Chun Man Alan; Bertrand, William Jeffrey; Amery, Drew Powell; Speckman, Lori C.; Sierocuk, Thomas J., Corrosion-resistant magnetic article.
  10. Leung, Chun Man Alan; Bertrand, William Jeffrey; Amery, Drew Powell; Speckman, Lori C.; Sierocuk, Thomas J., Corrosion-resistant magnetic article.
  11. Lee,Chung J., Dielectric thin films from fluorinated precursors.
  12. Lee, Chung J.; Kumar, Atul; Chen, Chieh; Tzeng, George, Method of encapsulating an organic light emitting device.
  13. Lee, Chung J.; Kumar, Atul; Chen, Chieh, Method of encapsulating an organic light-emitting device.
  14. Lee,Chung J.; Chen,Chieh; Kumar,Atul, Organic light emitting device having a protective barrier.
  15. Hogg, Andreas; Keppner, Herbert; Charmet, Jerome; Aellen, Thierry; Burger, Juergen, Packaging with active protection layer.
  16. Hogg, Andreas; Keppner, Herbert; Aellen, Thierry; Burger, Juergen, Plasma enhanced polymer ultra-thin multi-layer packaging.
  17. Lee,Chung J.; Kumar,Atul, Single and dual damascene techniques utilizing composite polymer dielectric film.
  18. Kennedy, Joseph T.; Baldwin-Hendricks, Teresa, Spin-on anti-reflective coatings for photolithography.
  19. Kennedy, Joseph; Baldwin, Teresa; Hacker, Nigel P.; Spear, Richard, Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography.
  20. Lee,Chung J.; Kumar,Atul; Chen,Chieh; Pikovsky,Yuri, System for forming composite polymer dielectric film.
  21. Hogg, Andreas; Keppner, Herbert; Aellen, Thierry; Burger, Juergen, Ultra-thin multi-layer packaging.
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