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Semiconductor device with integrated circuit elements of group III-V comprising means for preventing pollution by hydrogen

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-023/48
출원번호 US-0412261 (1999-10-05)
우선권정보 FR-0012497 (1998-10-06)
발명자 / 주소
  • Baudet, Pierre
  • Frijlink, Peter
출원인 / 주소
  • Koninklijke Philips Electronics N.V.
대리인 / 주소
    Waxler, Aaron
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 9

초록

A semiconductor device comprising integrated circuit elements realized by means of a stack of layers of semiconductor materials provided on a substrate of semiconductor material and comprising means for preventing the pollution of the circuit elements and of the substrate by hydrogen originating fro

대표청구항

1. A semiconductor device comprising integrated circuit elements realized in a stack of layers on a substrate and comprising means for preventing pollution of the circuit elements and of the substrate by hydrogen originating from an environment inside a housing enclosing a portion of the semiconduct

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Wallace Robert M. (Richardson TX) Gnade Bruce E. (Dallas TX) Kirk Wiley P. (Richardson TX), Anode plate for flat panel display having silicon getter.
  2. Evans ; Jr. Joseph T., Ferroelectric based memory devices utilizing hydrogen barriers and getters.
  3. Stupian Gary W. (Hermosa Beach CA) Leung Martin S. (Redondo Beach CA), Hydrogen out venting electronic package.
  4. Kaloyeros Alain E. ; Arkles Barry C., Method for the chemical vapor deposition of copper-based films.
  5. Kaloyeros Alain E. ; Arkles Barry C., Method for the chemical vapor deposition of copper-based films and copper source precursors for the same.
  6. Butt Sheldon H. (Godfrey IL) Cherukuri Satyam C. (West Haven CT), Process for producing a hermetically sealed package for an electrical component containing a low amount of oxygen and wa.
  7. Conte Andrea,ITX ; Carella Sergio,ITX, Process for producing high-porosity non-evaporable getter materials.
  8. Conte Andrea,ITX ; Carella Sergio,ITX, Process for producing high-porosity non-evaporable getter materials.
  9. Derkits ; Jr. Gustav Edward ; Lopata John ; Nash Franklin Richard, Structure for absorption of hydrogen in a package.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Saito, Yoshio, Single substrate hydrogen and microwave absorber for integrated microwave assembly and method of manufacturing same.
  2. Tornquist Hennig, Kelly Jill; Chang-Chien, Patty Pei-Ling; Zeng, Xianglin; Yang, Jeffrey Ming-Jer, Wafer level packaging integrated hydrogen getter.
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