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Crystalline ceric oxide sol and process for producing the same

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01P-017/00
  • C09G-001/02
출원번호 US-0076500 (2002-02-19)
우선권정보 JP-0052483 (2001-02-27)
발명자 / 주소
  • Ota, Isao
  • Nishimura, Tohru
  • Tanimoto, Kenji
출원인 / 주소
  • Nissan Chemical Industries, Ltd.
대리인 / 주소
    Oliff & Berridge, PLC
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 6

초록

Substantially monodisperse crystalline ceric oxide sols and processes for producing such sols are provided. Sols include crystalline ceric oxide particles having a particle size I (particle size converted from specific surface area by gas absorption method) ranging from 10 nm to 200 nm and a ratio o

대표청구항

1. A sol comprising crystalline ceric oxide particles, in which the particles have particle size I ranging from 10 nm to 200 nm and a ratio of particle size II to the particle size I ranging from 2 to 6, wherein the particle size I is a particle size converted from a specific surface area by gas ads

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Yamamoto Shin (Kakogawa JPX) Oka Yoichi (Kakogawa JPX) Nishikura Hiroshi (Kakogawa JPX), Ceric oxide sol.
  2. Takanori Kido JP; Masayuki Sanbayashi JP; Fumio Tsujino JP; Kagetaka Ichikawa JP, Cerium oxide slurry for polishing, process for preparing the slurry, and process for polishing with the slurry.
  3. Chane-Ching Jean-Yves,FRX ; Chopin Thierry,FRX, High concentration colloidal dispersion of a cerium compound and a process for its preparation.
  4. Chane-Ching Jean-Yves (Paris FRX) Le Loarer Jean-Luc (La Rochelle FRX) Dupuis Patrick (Paris FRX), Novel ceric oxides and preparation thereof.
  5. Wang Jiun-Fang (Piscataway NJ), Oxide particles and method for producing them.
  6. Kasai Toshio,JPX ; Ota Isao,JPX ; Kaga Takao,JPX ; Nishimura Tohru,JPX ; Tanimoto Kenji,JPX, Process for producing crystalline ceric oxide particles and abrasive.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Wang, Jun; Haerle, Andrew G., Abrasive particulate material, and method of planarizing a workpiece using the abrasive particulate material.
  2. Burba, III, John L.; Hassler, Carl R.; O'Kelley, C. Brock; Lupo, Joseph A.; Pascoe, Joseph R., Apparatus for treating a flow of an aqueous solution containing arsenic.
  3. Haerle, Andrew G.; Wang, Jun, Ceria material and method of forming same.
  4. Haerle, Andrew G.; Wang, Jun, Ceria material and method of forming same.
  5. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Composition for removing arsenic from aqueous streams.
  6. Burba, III, John L., Composition for treating a fluid.
  7. Criniere, Guillaume; Thiers, Laurent, Liquid suspensions and powders of cerium oxide particles and preparation and polishing applications thereof.
  8. Criniere, Guillaume; Thiers, Laurent, Liquid suspensions and powders of cerium oxide particles and preparation and polishing applications thereof.
  9. Burba, III, John L.; Oriard, Tim L., Process and apparatus for treating a gas containing a contaminant.
  10. Cable, Robert; Hassler, Carl; Burba, John, Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species.
  11. Psaras, Dimitrios; Gao, Yuan; Haneline, Mason; Lupo, Joseph; Landi, Carol, Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions.
  12. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Water purification device for arsenic removal.
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