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Pressure processing device

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/00
출원번호 US-0650812 (2000-08-30)
우선권정보 JP-0245692 (1999-08-31); JP-0276565 (1999-09-29); JP-0095431 (2000-03-30)
발명자 / 주소
  • Uehara, Katsuhiro
  • Sakashita, Yoshihiko
  • Kanda, Takeshi
  • Nishimoto, Takeo
출원인 / 주소
  • Kobe Steel, Ltd.
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 10

초록

A pressure processing device including a vessel having a body and an opening/closing member. A seal member is provided on a joining surface between the body and the opening/closing member, and a non-sliding joining surface is provided which is not slidably moved when the member is opened and closed.

대표청구항

A pressure processing device including a vessel having a body and an opening/closing member. A seal member is provided on a joining surface between the body and the opening/closing member, and a non-sliding joining surface is provided which is not slidably moved when the member is opened and closed.

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Ishii Takahiko (Kobe JPX), Apparatus for high efficiency hot isostatic pressing.
  2. Mielnik Richard J. (Erie PA) Metalonis John A. (Erie PA) Reber Richard K. (Erie PA) Rosio Larry R. (Erie PA) Shore Stephen H. (Erie PA) Smith Charles W. (Erie PA), Apparatus for supercritical cleaning.
  3. Kamikawa Yuji,JPX ; Kuroda Osamu,JPX ; Soejima Kenji,JPX ; Nomura Tsuyoshi,JPX, Cleaning and drying apparatus, wafer processing system and wafer processing method.
  4. Osamu Tokunaga JP; Hideyuki Hasebe JP; Sigemiti Inada JP, Faucet support member.
  5. Uehara Katsuhiro (Kobe JPX) Ishii Takahiko (Kobe JPX) Fujikawa Takao (Kobe JPX) Kanda Kuniaki (Kobe JPX) Narukawa Yutaka (Nishinomiya JPX), Interlocking device for hot isostatic pressurizing equipment.
  6. Eric J. Bergman ; Ian Sharp ; Craig P. Meuchel ; H. Frederick Woods, Method and apparatus for high-pressure wafer processing and drying.
  7. Fujikawa Takao,JPX ; Ishii Takahiko,JPX ; Masuda Tsuneharu,JPX ; Kadoguchi Makoto,JPX ; Narukawa Yutaka,JPX, Pressure processing apparatus for semiconductors.
  8. Mullee William H., Removal of resist or residue from semiconductors using supercritical carbon dioxide.
  9. Fujikawa Takao,JPX ; Nakai Noriaki,JPX, Sealing device for high pressure vessel.
  10. Fujikawa Takao (Takasago JPX) Uehara Katsuhiro (Takasago JPX) Sakashita Yoshihiko (Takasago JPX) Okada Hiroshi (Kobe JPX) Kawanaka Takao (Kobe JPX), Vertical furnace for the growth of single crystals.

이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Lee, Hyosan; Ko, Yongsun; Kim, Kyongseob; Kim, Kwangsu; Kim, SeokHoon; Lee, Kuntack; Jun, Yongmyung; Cho, Yong-Jhin, Apparatus and methods for treating a substrate.
  2. Hsu, Wei-Tse; Lan, Chung-Wen; Luo, Yi-Song, Apparatus for chemical bath deposition between two covers, wherein a cover is a substrate.
  3. McDermott,Wayne Thomas; Ockovic,Richard Carl; Schwarz,Alexander, Dense phase processing fluids for microelectronic component manufacture.
  4. Glassman,Steven P., High efficiency plating apparatus and method.
  5. Muraoka,Yusuke; Iwata,Tomomi; Saito,Kimitsugu; Yamagata,Masahiro; Inoue,Yoichi; Oshiba,Hisanori, High-pressure processing apparatus and high-pressure processing method.
  6. Suzuki, Kenji; Gomi, Atsushi; Hara, Masamichi; Mizusawa, Yasushi, Method and apparatus for reducing particle contamination in a deposition system.
  7. Schilling,Paul, Method of treating a composite spin-on glass/anti-reflective material prior to cleaning.
  8. Schulmeyr, Josef; Geyer, Stefan; Gehrig, Manfred, Pressure vessel arrangement comprising an external pressure vessel and at least one insert basket.
  9. Bertram, Ronald Thomas; Scott, Douglas Michael, Removal of contaminants from a fluid.
  10. Jacobson,Gunilla; Yellowaga,Deborah, Treatment of a dielectric layer using supercritical CO.
  11. Abbott, Kenneth A., Vapor deposition of anti-stiction layer for micromechanical devices.
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