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Negative planographic printing plate

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/075
  • G03F-007/11
  • G03F-007/038
출원번호 US-0895401 (2001-07-02)
우선권정보 JP-0207153 (2000-07-07)
발명자 / 주소
  • Aoshima, Keitaro
출원인 / 주소
  • Fuji Photo Film Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Burns, Doane, Swecker & Mathis, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 8

초록

There is provided a negative planographic printing plate which can be directly recorded based on digital data from computers and the like, excellent in storage stability, shows no reduction in sensitivity with the lapse of time, and has excellent face flatness. It comprises a substrate having dispos

대표청구항

1. A negative planographic printing plate comprising: a substrate, and a photosensitive layer disposed on the substrate, the photosensitive layer containing an infrared absorber, a compound which generates a radical due to heat, a polymerizable compound, a silicon surfactant, and a binder polyme

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Terry Lane Scarlette, Abrasion resistant coatings.
  2. Kazuto Kunita JP, Image forming material.
  3. Mohr Dieter (Wiesbaden DEX) Riess Kurt (Wiesbaden DEX), Light-sensitive aqueous developable copying material and product by coating process thereof utilizing polysiloxane and a.
  4. West Paul Richard ; Sheriff Eugene Lynn ; Gurney Jeffery Allen ; Schneebeli Ralph Scott ; Jordan Thomas Robert ; Miller Gary Roger, Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element.
  5. Aoshima Keitaro,JPX, Negative type image recording material.
  6. Kobayashi Fumikazu,JPX, Negative type image recording material.
  7. Haley Neil F. (Wellington CO) Corbiere Steven L. (Windsor CO), Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing p.
  8. Nguyen My T. ; Saraiya Shashikant ; Mikell Frederic E. ; Shimazu Ken-ichi ; Pappas S. Peter ; Hallman Robert W. ; Shah Ajay ; Timpe Hans-Joachim,DEX ; Savariar-Hauck Celin,DEX, Radiation-sensitive compositions and printing plates.

이 특허를 인용한 특허 (18)

  1. Baldwin, Teresa; Kennedy, Joseph; Iwamoto, Nancy; Nakano, Tadashi; Bedwell, William; Stuck, Jason; Suedemeyer, Arlene; Hebert, Mello, Anti-reflective coating for photolithography and methods of preparation thereof.
  2. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  3. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  4. Li, Bo; Kennedy, Joseph; Iwamoto, Nancy; Fradkin, Mark A.; Hussein, Makarem A.; Goodner, Michael D.; Lu, Victor; Leung, Roger, Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof.
  5. Varaprasad, Desaraju; Korolev, Boris; Mukhopadhyay, Sudip, Coating formulations for optical elements.
  6. Kennedy, Joseph; Xie, Songyuan; Do, Kim; Mukhopadhyay, Sudip, Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof.
  7. Jones, Phillip E., Computer to plate color sensor and drying/curing system and method.
  8. Govek,Jeffrey P.; Person,Steven M.; Pizzillo,David M.; Jones,Phillip E.; Aylor,John E.; Douglas,David D., Computer to plate curing system.
  9. Rondon, Sonia; Lanphear, Susan, Lithographic imaging with printing members having hydrophilic, surfactant-containing top layers.
  10. Jung,Jae chang; Shin,Ki soo, Organic anti-reflective coating composition and method for forming photoresist patterns using the same.
  11. Jung,Jae chang; Shin,Ki soo, Organic anti-reflective coating composition and method for forming photoresist patterns using the same.
  12. Goto,Takahiro, Photosensitive composition and planographic printing plate precursor.
  13. Hoshi,Satoshi; Aoshima,Keitaro, Planographic printing plate precursor and planographic printing method.
  14. Shimada,Kazuto, Polymerizable composition and image-recording material using the same.
  15. Shimada, Kazuto, Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor.
  16. Naiini, Ahmad A.; Powell, David B.; Racicot, Donald W.; Rushkin, Il'ya; Weber, William D., Positive photosensitive polybenzoxazole precursor compositions.
  17. Kennedy, Joseph T.; Baldwin-Hendricks, Teresa, Spin-on anti-reflective coatings for photolithography.
  18. Kennedy, Joseph; Baldwin, Teresa; Hacker, Nigel P.; Spear, Richard, Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography.
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