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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0389290 (1999-09-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 7 |
In one aspect, the invention includes a method of treating a surface of a substrate. A mixture which comprises at least a frozen first material and liquid second material is provided on the surface and moved relative to the substrate. In another aspect, the invention encompasses a method of treating
1. A method of treating a surface of a semiconductor substrate, comprising: supplying a mixture of a frozen first material and a liquid second material; the mixture consisting of H 2O and glycol, wherein the first material comprises H2O and the second material comprises glycol; providing the mix
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