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Liner for use in processing chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65B-001/04
  • B65B-003/04
  • B67C-003/02
출원번호 US-0095441 (2002-03-13)
발명자 / 주소
  • Donohoe, Kevin G.
출원인 / 주소
  • Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Dickstein Shapiro Morin & Oshinsky LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 11

초록

A container for use in a processing chamber to lessen the amount of contaminant particles found within the chamber after processing. The container fits closely within the chamber and includes ports for a gas conduit and a vacuum conduit. The container may be locked to the chamber through a locking m

대표청구항

A container for use in a processing chamber to lessen the amount of contaminant particles found within the chamber after processing. The container fits closely within the chamber and includes ports for a gas conduit and a vacuum conduit. The container may be locked to the chamber through a locking m

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Muka Richard S. (Topsfield MA) Pippins Michael W. (Hamilton MA) Drew Mitchell A. (Portsmouth NH), Batchloader for substrate carrier on load lock.
  2. Parikh Mihir (San Jose CA) Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Faraco W. George (Saratoga CA) Huang Barney H. (Sunnyvale CA), Container having disposable liners.
  3. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Oen Joshua T. (Newark CA), Direct loadlock interface.
  4. Kevin G. Donohoe, Liner for use in processing chamber.
  5. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
  6. Tullis Barclay J. (Palo Alto CA) Parikh Mihir (San Jose CA) Thrasher David L. (Menlo Park CA) Johnston Mark E. (Saratoga CA), Particle-free dockable interface for integrated circuit processing.
  7. Romm Douglas W. (Sherman TX) Nye Larry W. (Sherman TX) Head Michael R. (Colbert OK), Quick cure exhaust manifold.
  8. Gentischer Josef (Weinbergweg 31 73630 Remshalden DEX), System for transferring substrates into clean rooms.
  9. Ono Yuji (Sagamihara JPX) Mihara Katsuhiko (Hachioji JPX), Treatment system including a plurality of treatment apparatus.
  10. Bonora Anthony C. ; Wartenbergh Robert P. ; Gomes Christopher, Two stage valve for charging and/or vacuum relief of pods.
  11. Muka Richard S., Vacuum integrated SMIF system.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Donohoe,Kevin G., Liner for use in processing chamber.
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