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Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/42
  • G03B-027/58
출원번호 US-0983483 (2001-10-24)
우선권정보 JP-0171259 (1997-06-13); JP-0213876 (1997-07-25); JP-0121665 (1998-04-16); JP-0142090 (1998-05-11)
발명자 / 주소
  • Yonekawa, Masami
  • Fukagawa, Yozo
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha
대리인 / 주소
    Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 11

초록

Accurate alignment can be attained irrespective of strains of the main body structure. An exposure apparatus, which has a substrate stage (13, 15) which holds and moves a substrate (18), a position measurement unit (14) for measuring the position of the substrate stage, and a control unit (16) for p

대표청구항

Accurate alignment can be attained irrespective of strains of the main body structure. An exposure apparatus, which has a substrate stage (13, 15) which holds and moves a substrate (18), a position measurement unit (14) for measuring the position of the substrate stage, and a control unit (16) for p

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Inoue Mitsuru,JPX ; Ebinuma Ryuichi,JPX ; Iwamoto Kazunori,JPX ; Osanai Eiji,JPX ; Takeishi Hiroaki,JPX, Exposure apparatus and device manufacturing method using the same.
  2. Lee Martin E. (Saratoga CA), Guideless stage with isolated reaction stage.
  3. Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakagawa Yasuo (Yokohama JPX) Aiuchi Susumu (Yokohama JPX) Nomoto Mineo (Yokohama JPX), Light exposure device and method.
  4. Hara Shinichi,JPX ; Miyachi Takeshi,JPX ; Mizusawa Nobutoshi,JPX ; Chiba Yuji,JPX ; Kasumi Kazuyuki,JPX, Mask supporting device and correction method therefor, and exposure apparatus and device producing method utilizing the.
  5. Deer Daniel J. (Chepstow GBX), Position determining apparatus.
  6. Iwamoto Kazunori,JPX, Projection exposure apparatus and exposure method and semiconductor device production method therewith.
  7. Sakai Toshikazu (Yokohama JPX), Semiconductor manufacturing apparatus having a plurality of measurement devices and a semiconductor manufacturing method.
  8. Makinouchi Susumu (Zama JPX), Stage device.
  9. Otsuka Hiroyuki (Ushiku JPX) Hosaka Kotaro (Ushiku JPX) Higomura Makoto (Yokohama JPX), Stage positioning control method and apparatus.
  10. Korenaga Nobushige (Sagamihara JPX) Iwamoto Kazunori (Yokohama JPX), Support device.
  11. Takahashi Masato,JPX, Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Oishi,Satoru; Ina,Hideki; Suzuki,Takehiko; Sentoku,Koichi, Alignment apparatus, exposure apparatus using same, and method of manufacturing devices.
  2. Oishi,Satoru; Ina,Hideki; Suzuki,Takehiko; Sentoku,Koichi, Alignment apparatus, exposure apparatus using the same, and method of manufacturing devices.
  3. Wada, Hiroyuki, Exposure apparatus and device manufacturing method.
  4. Fukagawa,Youzou; Yoshihara,Toshiyuki; Nakamori,Mario; Shinano,Yuji, Optical apparatus, method of determining position of optical element in optical system, and device manufacturing method.
  5. Fukagawa,Youzou; Yoshihara,Toshiyuki; Nakamori,Mario; Shinano,Yuji, Optical apparatus, method of determining position of optical element in optical system, and device manufacturing method.
  6. Komatsu,Shigekazu; Hyakudomi,Takanori; Chaya,Hiromi; Hayashi,Takahisa; Shigeno,Yukihide, Probe apparatus with optical length-measuring unit and probe testing method.
  7. Ito, Atsushi, Stage apparatus, exposure apparatus and device fabrication method.
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