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Connecting member for a fast-fit safety coupling

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F16L-037/42
출원번호 US-0182195 (2001-01-25)
우선권정보 IT-0000091 (2000-01-28)
국제출원번호 PCT/IT01/00040 (2001-01-25)
국제공개번호 WO01/55632 (2001-08-02)
발명자 / 주소
  • Nicolino, Aldo
  • Caradonna, Giandomenico
  • Pellegrino, Massimo
출원인 / 주소
  • Pres-Block S.p.A.
대리인 / 주소
    Blank Rome LLP
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 5

초록

A connecting member ( 4 ) for a fast-fit safety coupling ( 1 ), having a tubular main member ( 10 ) connectable to a first conduit ( 2 ) for conducting pressurized fluid; a valve member ( 11 ) fitted inside the main member ( 10 ) to slide axially between a first work position separating the first co

대표청구항

1. A connecting member ( 4 , 4 ′) connectable to a first conduit ( 2 ) for conducting a pressurized operating fluid, and fittable releasably to an endpiece ( 5 ) of a second conduit ( 3 ) for conducting said operating fluid, so as to define a fast-fit safety coupling ( 1 ); said connecting me

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Braun Thomas Anthony ; Blenkush Brian J., Low spill high flow quick coupling valve assembly.
  2. Bartholomew Donald D. (Mt. Clemens MI), Quick connect fluid coupling.
  3. Van Scyoc Thomas W. ; Wilson Phillip G. ; Suggs Michael J., Quick-action fluid coupling.
  4. deCler C. Peter ; Meyer David W. ; Sturm Blaine C., Valve and method for assembling the same.
  5. deCler C. Peter ; Meyer David W. ; Sturm Blaine C., Valve and method for assembling the same.

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J., Capacitively coupled plasma reactor having a cooled/heated wafer support with uniform temperature distribution.
  2. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J., Capacitively coupled plasma reactor having very agile wafer temperature control.
  3. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Capacitively coupled plasma reactor having very agile wafer temperature control.
  4. Downs, Dennis Daniel; Harris, Gary James; Wilhelm, Grant Armin, Coupling.
  5. Downs, Dennis Daniel; Harris, Gary James; Wilhelm, Grant Armin, Coupling.
  6. Wilhelm, Grant Armin; Downs, Dennis Daniel; Schmidt, Mark F., Coupling for fluid bladder.
  7. Aoki, Kazunori, Female joint having safety function.
  8. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, Williams W.; Zubillaga, Glenn W.; Millian, Isaac, Method for agile workpiece temperature control in a plasma reactor using a thermal model.
  9. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J., Method of cooling a wafer support at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor.
  10. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Method of cooling a wafer support at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor.
  11. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Method of operating a capacitively coupled plasma reactor with dual temperature control loops.
  12. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Method of processing a workpiece in a plasma reactor using feed forward thermal control.
  13. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Method of processing a workpiece in a plasma reactor using multiple zone feed forward thermal control.
  14. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J., Plasma reactor with a multiple zone thermal control feed forward control apparatus.
  15. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Plasma reactor with a multiple zone thermal control feed forward control apparatus.
  16. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J., Plasma reactor with feed forward thermal control system using a thermal model for accommodating RF power changes or wafer temperature changes.
  17. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Plasma reactor with feed forward thermal control system using a thermal model for accommodating RF power changes or wafer temperature changes.
  18. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac, Plasma reactor with wafer backside thermal loop, two-phase internal pedestal thermal loop and a control processor governing both loops.
  19. Schmidt, Mark F., Quick disconnect coupling.
  20. Taguchi, Hiroaki; Uchiyama, Kouechi, Socket and pipe fitting including same.
  21. O'Keefe, Jr., Edward L.; Kalik, Robert G.; Fritze, Karl, Tri-function tap for beverages.
  22. O'Keefe, Jr., Edward L.; Kalik, Robert G.; Fritze, Karl, Wine dispensing system.
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