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Optical apparatus, optical apparatus adjustment method, and storage medium recorded with a processing program that executes said adjustment method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-011/26
출원번호 US-0536620 (2000-03-28)
우선권정보 JP-0007741 (2000-01-17)
발명자 / 주소
  • Kasai, Yuji
  • Murakawa, Masahiro
  • Itatani, Taro
  • Higuchi, Tetsuya
출원인 / 주소
  • Agency of Industrial Science and Technology, Ministry of International Trade & Industry, Evolvable System Research Institute, Inc.
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 2

초록

An optical apparatus has an adjustment apparatus 5 and an optical unit 1 including a plurality of optical elements. The adjustment apparatus sequentially provides control signals that, according to a probabilistic search technique, change the parameters of a stipulated plurality of optical elements

대표청구항

1. An optical apparatus comprising:an optical unit comprising a plurality of optical elements;an adjustment apparatus configured to output control signals which, according to a genetic algorithm, make adjustment of parameters of a stipulated plurality of optical elements among said plurality of opti

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Catanzaro Brian ; Smith Adlai H., Optimization of overlapping holographic lens array for creating via matrix.
  2. Kiryuscheva Irina,ILX ; Marom Emanuel,ILX ; Mendlovic David,ILX ; Conforti Naim,ILX, Positioning devices and a method and positioning device for aligning an optical fiber with an optical beam.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Bridson,William Douglas, Automated selection of optical systems.
  2. Sendhoff, Bernhard; Beyer, Hans-Georg, Evolutionary search for robust solutions.
  3. Manzolati,Richard J., Method and system for optimizing performance of an apparatus.
  4. Park, SangBong; Chen, Jang Fung; Liebchen, Armin, Method of performing resist process calibration/optimization and DOE optimization for providing OPE matching between different lithography systems.
  5. Park,Sangbong; Chen,Jang Fung; Liebchen,Armin, Method of performing resist process calibration/optimization and DOE optimization for providing OPE matching between different lithography systems.
  6. Jin,Yaochu; Sendhoff,Bernhard, Methods for multi-objective optimization using evolutionary algorithms.
  7. Olhofer,Markus; Sendhoff,Bernhard, Strategy parameter adaptation in evolution strategies.
  8. Jin,Yaochu; Sendhoff,Bernhard; Okabe,Tatsuya; Olhofer,Markus, System and method for estimation of a distribution algorithm.
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