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Vaporizing reactant liquids for chemical vapor deposition film processing 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01F-003/04
출원번호 US-0919633 (2001-07-31)
발명자 / 주소
  • Sivaramakrishnan, Visweswaren
  • White, John M.
출원인 / 주소
  • Applied Materials Inc.
대리인 / 주소
    Dergosits & Noah
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 12

초록

The disclosure relates to a vaporizer valve which accepts a carrier gas and a pressurized liquid and forms a mixture of the carrier gas and vaporized liquid. An internal cavity receives the carrier gas through a carrier aperture and the liquid through a liquid aperture, and the mixed gas and vapor a

대표청구항

1. A vaporizer for vaporizing a liquid and mixing the vaporized liquid with a carrier gas, said vaporizer comprising:a valve body having a first aperture, a second aperture and a third aperture;a valve seat through which fluid flows;a gas inlet port for receiving said carrier gas, said gas inlet por

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Jolly Stuart Talbot (Yardley PA), Accurate control during vapor phase epitaxy.
  2. Foster Robert (San Francisco CA) Wang David N. (Cupertino CA) Somekh Sasson (Redwood City CA) Maydan Dan (Los Altos Hills CA), Apparatus and method for magnetron-enhanced plasma-assisted chemical vapor deposition.
  3. Conger Darrell R. (Portland OR) Posa John G. (Lake Oswego OR) Wickenden Dennis K. (Lake Oswego OR), Apparatus for depositing material on a substrate.
  4. Shibuya Munehiro (Katano) Kitagawa Masatoshi (Hirakata) Kamada Takeshi (Ikeda) Hirao Takashi (Moriguchi) Nishizato Hiroshi (Narita JPX), Apparatus for producing a thin film of tantalum oxide.
  5. McNeilly Michael A. (Saratoga CA) Benzing Walter C. (Saratoga CA), Chemical vapor deposition coating process employing radiant heat and a susceptor.
  6. Nagashima Makoto (Tokyo JPX) Nishizato Hiroshi (Chiba JPX) Ono Hirofumi (Shiga JPX), Chemical vapor deposition method and apparatus therefore.
  7. Rosler Richard S. (Saratoga CA) East Robert W. (San Jose CA), Chemical vapor deposition reactor and process.
  8. Martin John G. (San Jose CA) Benzing Walter C. (Saratoga CA) Graham Robert (Saratoga CA), Induction heated reactor system for chemical vapor deposition.
  9. Kirlin Peter S. (Brookfield) Binder Robin L. (Bethlehem) Gardiner Robin A. (Bethel CT), Method for delivering an involatile reagent in vapor form to a CVD reactor.
  10. Moriyama, Masashi; Yamahira, Yutaka; Matsuyama, Yuji, Processing liquid supply unit.
  11. Wang David N. (Cupertino) White John M. (Hayward) Law Kam S. (Union City) Leung Cissy (Union City) Umotoy Salvador P. (Pittsburg) Collins Kenneth S. (San Jose) Adamik John A. (San Ramon) Perlov Ilya , Thermal CVD/PECVD reactor and use for thermal chemical vapor deposition of silicon dioxide and in-situ multi-step planar.
  12. Sivaramakrishnan Visweswaren ; White John M., Vaporizing reactant liquids for chemical vapor deposition film processing.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Ngo, Khai; Nguyen, Son; Ulloa, Ernesto, In-situ monitor of injection valve.
  2. Miyamoto,Hideaki; Nishida,Wataru; Shimizu,Tetsuo, Liquid material evaporation apparatus for semiconductor manufacturing.
  3. Yoshioka, Naoki; Kawamoto, Tatsushi; Kawao, Mitsushi; Matsuno, Shigeru; Yamada, Akira; Miyashita, Shoji; Uchikawa, Fusaoki, Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method.
  4. Yoshioka, Naoki; Kawamoto, Tatsushi; Kawao, Mitsushi; Matsuno, Shigeru; Yamada, Akira; Miyashita, Shoji; Uchikawa, Fusaoki, Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method.
  5. Sivaramakrishnan,Visweswaren; White,John M., Vaporizing reactant liquids for chemical vapor deposition film processing.
  6. Sivaramakrishnan,Visweswaren; White,John; Ishikawa,Koichi; Miyamoto,Hideaki; Kawano,Takeshi, Vaporizing reactant liquids for chemical vapor deposition film processing.
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