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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0127373 (2002-04-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 2 |
A process of making a high precision microcontact printing stamp in which an elastomeric monomer or oligomer is introduced into a mold wherein a photoresist master imprinted with a microcircuit design in negative relief is predisposed. The monomer or oligomer is cured at a temperature no higher than
1. A process for making a microcontact printing stamp comprising the steps of:predisposing a photoresist master having a microcircuit design in negative relief above a flexible stamp backplane in a mold;introducing a liquid elastomeric monomer or oligomer mixture into said mold so that said monomer
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