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Radiation sensitive refractive index changing composition and refractive index changing method

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-001/73
  • G03F-007/028
  • G03F-007/032
  • G03F-007/035
  • G03F-007/037
  • G03F-007/20
출원번호 US-0322460 (2002-12-19)
우선권정보 JP-0389777 (2001-12-21)
발명자 / 주소
  • Yamada, Kenji
  • Bessho, Nobuo
  • Kumano, Atsushi
  • Konno, Keiji
출원인 / 주소
  • JSR Corporation
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 31  인용 특허 : 4

초록

A radiation sensitive refractive index changing composition whose refractive index of a material is changed by a simple method, whose changed refractive index difference is sufficiently large, and which can provide a stable refractive index pattern and a stable optical material regardless of their u

대표청구항

1. A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a polymerizable compound, (B) a non-polymerizable compound having a lower refractive index than the polymer of the polymerizable compound (A), and (C) a radiation sensitive polymerization initiator,said non-polymerizable c

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Breyne Olivier,FRX ; Chan You-Ping,FRX ; Henry David,FRX ; Lafosse Xavier,FRX, Photochromic compositions, photochromic compounds (co)polymer matrices.
  2. Pai Daniel Y. (Millbury MA) Rodriguez Stephen S. (Monument Beach MA) Cheetham Kevin J. (Millbury MA) Calabrese Gary S. (North Andover MA) Sinta Roger F. (Woburn MA), Photoimageable resist compositions containing photobase generator.
  3. Umemoto Seiji,JPX ; Fujimura Yasuo,JPX ; Hara Kazutaka,JPX ; Yamamoto Suguru,JPX, Process for producing polymerization or crosslinking rate-distributed article and process for producing lens, lens array or waveguide using the process.
  4. Koike Yasuhiro,JPX, Process for producting optical resin materials with distributed refractive index.

이 특허를 인용한 특허 (31)

  1. Su, Yu-Chung; Chang, Ching-Yu; Wang, Wen-Yun, Anti-reflective layer and method.
  2. Su, Yu-Chung; Chang, Ching-Yu; Wang, Wen-Yun, Anti-reflective layer and method.
  3. Hoffnagle, John A.; Medeiros, David R.; Miller, Robert D.; Vycklicky, Libor; Wallraff, Gregory M., Bleachable materials for lithography.
  4. Walker, Jr.,Christopher B.; Thompson,D. Scott; Paolucci,Dora M.; Brady,John T., Coating dispersions for optical fibers.
  5. Huang, Yu Yi; Kuo, Hung-Jui; Liu, Chung-Shi, Conductive line system and process.
  6. Huang, Yu Yi; Kuo, Hung-Jui; Liu, Chung-Shi, Conductive line system and process.
  7. Huang, Yu Yi; Kuo, Hung-Jui; Liu, Chung-Shi, Conductive line system and process.
  8. Su, Yu-Chung; Chang, Ching-Yu, Gap filling materials and methods.
  9. Chang, Ching-Yu; Liu, Chen-Yu, Method for manufacturing semiconductor device.
  10. Chang, Ching-Yu; Liu, Chen-Yu, Method for manufacturing semiconductor device.
  11. Lai, Wei-Han; Chang, Ching-Yu, Photoresist and method.
  12. Wu, Chen-Hau; Lai, Wei-Han; Chang, Ching-Yu, Photoresist and method.
  13. Wu, Chen-Hau; Lai, Wei-Han; Chang, Ching-Yu, Photoresist and method.
  14. Lin, Keng-Chu; Liou, Joung-Wei; Wu, Cheng-Han; Chang, Ya Hui, Photoresist and method of formation and use.
  15. Liu, Chen-Yu; Chang, Ching-Yu; Chen, Chien-Chih; Chen, Yen-Hao, Photoresist and method of manufacture.
  16. Wang, Wen-Yun; Chang, Ching-Yu, Photoresist defect reduction system and method.
  17. Wang, Wen-Yun; Chang, Ching-Yu, Photoresist defect reduction system and method.
  18. Liu, Chen-Yu; Chang, Ching-Yu, Photoresist layer and method.
  19. Chen, Chien-Chih; Wu, Cheng-Han; Chang, Ching-Yu, Photoresist system and method.
  20. Lai, Wei-Han; Chang, Ching-Yu, Photoresist system and method.
  21. Wang, Wen-Yun; Wu, Cheng-Han, Photoresist system and method.
  22. Wu, Chen-Hau; Chang, Ching-Yu, Photoresist system and method.
  23. Wu, Chen-Hau; Chang, Ching-Yu, Photoresist system and method.
  24. Wu, Chen-Hau; Chang, Ching-Yu, Photoresist system and method.
  25. Maruyama, Ken; Kai, Toshiyuki, Polymer.
  26. Su, Yu-Chung; Chang, Ching-Yu, Polymer resin comprising gap filling materials and methods.
  27. Maruyama, Ken; Kai, Toshiyuki, Polymer, radiation-sensitive composition, monomer, and method of producing compound.
  28. Hanamura,Masaaki; Nishikawa,Michinori; Kumano,Atsushi, Radiation sensitive refractive index changing composition, pattern forming method and optical material.
  29. Nishimura,Isao; Bessho,Nobuo; Kumano,Atsushi; Shimokawa,Tsutomu; Yamada,Kenji, Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index.
  30. Nishimura,Isao; Bessho,Nobuo; Kumano,Atsushi; Yamada,Kenji, Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof.
  31. Liu, Chen-Yu; Chang, Ching-Yu, Unlocking layer and method.
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