최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0085670 (2002-02-27) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 11 |
A component of a plasma reactor chamber for processing a semiconductor workpiece, the component being a monolithic ceramic piece formed from a mixture of yttrium aluminum perovskite (YAP) and yttrium aluminum garnet (YAG) formed from a mixture of yttria and alumina powders, the ratio the powders in
1. A component of a plasma reactor chamber for processing a semiconductor workpiece, said component comprising a monolithic ceramic piece comprising a mixture of yttrium aluminum perovskite (YAP) and yttrium aluminum garnet (YAG), said mixture being in a ratio of YAP to YAG material, sufficiently cl
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.